平板型偏振膜主要是利用在斜入射時由電介質反射膜兩個偏振分量的反射帶帶寬的不同而制成的。一般高反射膜，隨著入射角的增大，垂直分量的反射帶寬逐漸增大，而平行分量的帶寬逐漸減少。選擇垂直分量的高反射區、平行分量的高透過區為工作區則可構成透過平行分量反射垂直分量的偏振膜，這種偏振膜的入射角一般選擇在基體的布儒斯特角附近。棱鏡型偏振膜工作的波長范圍比較寬，偏振度也可以做得比較高，但它制備較麻煩，不易做得大，抗激光強度也比較低。平板型偏振片工作的波長區域比較窄，但它可以做得很大，抗激光強度也比較高，所以經常用在強激光系統中。圖4和圖5分別給出中性光強分光膜和平板型偏振分光膜的反射光譜曲線。如東智能光學膜操作

擴散膜擴散片（DL系列）是在透明性非常好的PET表面，使用丙烯酸樹脂，精密涂布一層隨機分散的微米結構的擴散粒子，在PET的相對面再精密涂布一層隨機分散的微米結構的抗靜電粒子，運用在液晶顯示器中,使光線經由擴散層產生多次折射及繞射,從而起到均光作用，讓光顯示更加均勻柔和。反射膜反射片為在流延法制造時，在PET樹脂中摻雜HR高分子光學劑及增塑劑，以達到遮光和高反射效果之膜片，由於在膜片的中間層具有一定的吸收光線，而降低了反射效果。故此，在表面增加一層HR介質膜層，達到更佳的反射效果并具有抗紫外線黃變功能。如東挑選光學膜按需定制特別在紫外區，一般電介質材料吸收都比較大的情況下,它的優越性就更明顯了。

雖然薄膜的光學現象早在17世紀就為人們所注意，但是把光學薄膜作為一個課題進行專門研究卻開始于20世紀30年代以后，這主要因為真空技術的發展給各種光學薄膜的制備提供了先決條件。時至***，光學薄膜已得到很大發展，光學薄膜的生產已逐步走向系列化、程序化和專業化，但是，在光學薄膜的研究中還有不少問題有待進一步解決，光學薄膜現有的水平在不少工作中還不能滿足要求，需要提高。在理論上，不但薄膜的生長機理需要搞清，而且薄膜的光學理論，特別是應用于極短波段的光學理論也有待進一步完善和改進。

在紫外區常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見光區常用鋁和銀，在紅外區常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層，組成金屬電介質反射膜。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質膜加以保護。

在太陽能電池中的應用硅材料是一種半導體材料，太陽能電池發電原理主要就是利用這種半導體的光電效應。硅折射率很大，照射到硅表面的光不能充分被吸收，而是很大一部分被反射掉，為了比較大限度地減少反射損失，可采用在電池上鍍一層或多層折射率和厚度與電池匹配的減反射膜來提高電池的轉化效率過鍍減反射膜膜可增加光的透過率，從而提高電池的效率，多孔二氧化硅減反射膜不僅使電池的轉化效率提高了5% ～6%，而且還可以提高基體的抗裂強度；氮化硅減反射膜使電池的轉化效率提高到16．7%，薄膜致密性好且能夠鈍化硅片表面的缺陷；二氧化鈦和氧化鋯減反射膜能提高玻璃基體的抗堿性能和防水防潮性能。此外，還有把兩者結合起來的金屬電介質反射膜。啟東品牌光學膜供應商

常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。如東智能光學膜操作

由薄的分層介質構成的，通過界面傳播光束的一類光學介質材料。光學薄膜的應用始于20世紀30年代。現代，光學薄膜已***用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們在國民經濟和**建設中得到了廣泛的應用，獲得了科學技術工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減小；采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學薄膜可提高硅光電池的效率和穩定性。如東智能光學膜操作

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