電極的制備工藝對其電化學性能至關重要。以鈦基涂層電極為例，典型制備流程包括基體預處理（噴砂、酸蝕）、涂層溶液配制（如RuCl?和IrCl?的混合溶液）和熱分解氧化（多次涂覆-燒結循環(huán)）。溶膠-凝膠法可制備均勻的納米氧化物涂層，而電沉積法則適合精確控制貴金屬（如Pt）的負載量。關鍵挑戰(zhàn)在于涂層與基體的結合力不足導致的剝落問題，可通過引入中間層（如Ta?O?）或等離子噴涂技術改善。此外，新興的原子層沉積（ALD）技術能實現(xiàn)單原子級精度，用于制備超薄、高活性電極涂層。電化學除垢技術使結垢速率降低80%以上。內(nèi)蒙古工業(yè)電極設施

PPCPs（如防曬劑）在水體中持續(xù)積累，傳統(tǒng)工藝難以有效去除。電氧化技術可通過自由基攻擊實現(xiàn)PPCPs的分子結構破壞。以磺胺甲惡唑（SMX）為例，BDD電極在10 mA/cm2電流密度下處理2小時，SMX降解率>95%，且毒性評估顯示中間產(chǎn)物無生態(tài)風險。關鍵挑戰(zhàn)在于PPCPs的低濃度（ng/L~μg/L）和高背景有機物干擾，需通過提高電極選擇性（如分子印跡改性）或耦合前置吸附工藝來增強靶向降解。此外，實際水體中碳酸鹽等自由基淬滅劑會降低效率，需優(yōu)化反應條件以抑制副反應。廣東源力循壞水電極鋁電極電絮凝處理含油廢水，SS去除率>90%。

電鍍法也是制備鈦電極的重要手段。在電鍍過程中，將鈦基體作為陰極，浸入含有活性金屬離子的電鍍液中，通過施加合適的電流密度，使活性金屬離子在鈦基體表面還原沉積，形成活性涂層。例如，在制備鈦基貴金屬電極時，可以采用電鍍法將金、鉑等貴金屬沉積在鈦基體表面。電鍍法能夠精確控制涂層的厚度和成分，制備出具有均勻涂層的鈦電極。同時，通過調整電鍍液的配方和電鍍工藝參數(shù)，還可以制備出具有特殊結構和性能的涂層，滿足不同的應用需求 。

循環(huán)水中的鈣鎂離子易形成碳酸鈣和硫酸鈣垢，電化學除垢技術通過陰極反應（2H?O + 2e? → H?↑ + 2OH?）提高局部pH，促使成垢離子（Ca2?、Mg2?）以疏松形式析出并隨排污水排除。采用網(wǎng)狀不銹鋼陰極時，垢層主要成分為文石型CaCO?（非粘附性），可通過自動刮垢裝置清洗。關鍵參數(shù)包括電流密度（10-30 mA/cm2）、水溫（<60℃）和停留時間（>30分鐘）。某電廠循環(huán)水系統(tǒng)應用后，換熱管結垢速率從3 mm/年降至0.5 mm/年，同時節(jié)水15%（減少排污量）。該技術的瓶頸在于高硬度水質（>500 mg/L CaCO?）時能耗上升，需配合水質軟化預處理。電化學處理使軍團菌檢出率降為零。

氰的反應物是電鍍、冶金廢水的典型毒性成分，電氧化技術能將其高效轉化為低毒產(chǎn)物。在堿性條件下（pH>10），氰根（CN?）在陽極被直接氧化為氰酸根（OCN?），進一步水解為CO?和NH?。采用Ti/RuO?-IrO?電極時，CN?去除率可達99.9%，且電流效率高達70%。若廢水中含重金屬（如Cu2?），電氧化還可同步破絡合并沉淀金屬離子。該技術的重要參數(shù)是pH控制（防止HCN揮發(fā)）和氯離子濃度（NaCl作為電解質時可生成活性氯強化氧化），實際應用中需避免中間產(chǎn)物（如CNCl）的生成風險。電沉積Zn-PO?涂層使清洗周期延長6倍。貴州數(shù)據(jù)中心電極除硬

電化學方法處理成本低于傳統(tǒng)工藝。內(nèi)蒙古工業(yè)電極設施

在實際應用中，被研究的電極被稱作工作電極（W），在電化學分析法中也稱為指示電極。為了測量工作電極的電勢，通常會將其與參比電極（R）組成二電極測量電池。當需要使工作電極發(fā)生極化時，則需額外引入一個輔助電極（C），組成三電極測量電池系統(tǒng)。為降低電液中歐姆電位降（IR）對工作電極電勢測量的誤差，參比電極與電解液連接處常采用毛細管，即魯金毛細管，使其盡可能靠近工作電極，以提高測量的精度。多重電極與單一電極不同，其電極界面上存在多種電極反應。當不太純的鋅浸入硫酸中時，【Zn|H?SO?】電極上就可能同時發(fā)生鋅原子失去電子生成鋅離子的反應，以及氫離子得到電子生成氫氣的反應，且這兩個反應的速率都較快，因此該電極屬于二重電極。金屬腐蝕體系常常呈現(xiàn)出多重電極的特性，由于存在多種反應，多重電極的靜態(tài)電勢需根據(jù)不同反應的極化曲線和極化規(guī)律來綜合判斷，其電化學反應過程相對復雜，給研究和應用帶來了一定挑戰(zhàn)。內(nèi)蒙古工業(yè)電極設施