以鐳射紙為底層的光刻材料,通過 “基礎光澤打底 + 光刻光變疊加” 的雙重光學設計,讓動態光影效果更具層次感與視覺沖擊力。鐳射紙底層的基礎光澤源于其表面預制的微米級光柵結構,自然光照射時,光柵會將光線分解為定向反射光(如金屬質感光澤)或色散光(如彩虹漸變光澤),形成穩定且均勻的 “光學底色”—— 這種底色無需額外涂布光澤涂層,既能為后續光刻光變提供 “基底支撐”,又避免了單一光刻材料光效單薄的問題。當光刻材料的微結構(如棱錐陣列、多層光柵)與鐳射底層結合時,會形成 “雙重光學響應”:鐳射底層的基礎光澤作為 “底色光”,光刻微結構則作為 “動態光變層”,二者隨觀察角度同步變化卻互不干擾。例如化妝...
新型光刻材料中添加的聚丙烯酸與聚氨酯樹脂,通過分子級協同作用,從根本上解決了傳統光刻紙圖案易脫落、表面易磨損的痛點。聚丙烯酸具備優異的成膜性與基材黏結力,其分子鏈能滲透至光刻紙基材的微小孔隙中,形成緊密的 “錨定結構”,同時與光刻圖案的顏料分子形成強氫鍵結合,大幅提升圖案與基材的附著牢度 —— 即便經歷反復折疊、潮濕環境或輕微撕扯,圖案也不易出現翹邊、剝落現象,解決了傳統材料在包裝運輸中圖案易損壞的問題。新型光刻工藝無需定制定位紙,連線加工大幅縮短生產周期并降低成本。河北全息光刻機定位印刷光刻機 全息光刻定位紙作為環保屬性突出的新型防偽包裝材料,如今已成為酒類包裝領域的重要選擇。它憑借多...
工藝協同性進一步提升強化價值:UV 底涂會在重點圖案區域進行局部厚涂(厚度比背景區域高 2-3 微米),形成更平整的壓印基底,確保微結構光澤均勻;聚氨酯耐磨層也會針對重點區域優化覆蓋,提升高頻觸摸場景下的光效耐久性。例如酒盒的 “酒標圖案” 強化后,不僅傾斜角度下能呈現專屬的動態光影,觸摸時還能感知微結構帶來的細微凸起觸感,實現 “視覺 + 觸覺” 雙重強化。這種局部強化無需全版采用高成本微結構設計,在提升重點圖案辨識度的同時控制材料與工藝成本,適配煙酒、奢侈品、文創等領域的卡紙包裝,讓有限工藝成本集中服務于視覺元素,包裝的品牌傳遞與審美價值。光刻機的光學系統是圖案轉移部分。河南UV光刻機光刻...
光刻紙用于特色卡牌制作,依托 “定制微結構模壓 + 光刻光控成像” 的工藝組合,匹配卡牌對 “視覺辨識度” 與 “觸覺體驗感” 的雙重需求。在浮雕質感呈現上,采用針對卡牌尺寸優化的定制模壓版 —— 針對卡牌正面的角色紋路、專屬符號等圖案,雕刻深度為 8-12 微米的階梯式微結構,非圖案區域則設計 1-2 微米的淺紋基底。壓印時,結合光刻紙的 UV 底涂工藝(局部厚涂 3-4 微米),讓微結構完整復刻到卡牌表面,觸摸時能清晰感知角色盔甲的棱角、符號的凸起,形成類似金屬浮雕的細膩觸感,且微結構邊緣精度誤差控制在 ±0.03mm 內,避免圖案模糊導致的觸感斷層。光刻機的光學系統是圖案轉移部分。靜安區...
光澤度提升則依托 “表面平整化 + 光效增強”:精密拉伸讓復合薄膜表面粗糙度控制在 0.1μm 以內,比傳統銅版紙(粗糙度 0.5-1μm)更平整,減少光線散射;同時,透明復合層可放大光刻紙微結構的反光效果 —— 例如與八色 UV 膠印的鉑金油墨配合時,平整復合面讓金屬光澤反射更均勻,避免銅版紙表面凹凸導致的光澤斷層,使包裝整體光澤度提升 30%,且光澤持久性更強(經 200 次摩擦測試后,光澤保留率仍達 90%,遠超傳統銅版紙的 60%)。該工藝還與光刻紙特性兼容:復合后的基材平整度可保障后續模壓版壓印的微結構成型精度,避免因基材起伏導致的光變斷層;同時,復合層的耐候性可保護光刻紙微結構與 ...
依托深紫外光刻技術(DUV)的短波長特性(通常 193-365nm),光刻紙可實現微米級甚至亞微米級的圖案精度,為包裝打造 “細節獨特、視覺專屬” 的高辨識度效果。深紫外光的短波長能穿透光刻紙的感光樹脂層,在基材表面形成邊緣銳利的微觀圖案 —— 相較于傳統光刻技術(如紫外光刻),其圖案分辨率提升至 1-5μm,可復刻如發絲般纖細的線條(線寬≤3μm)、密集的漸變網點(網點間距≤5μm),甚至是包含隱藏信息的微觀紋理,這些高精度細節成為包裝視覺辨識度的重要載體。數據 I/O 處理控制單元是雙面光刻機重要部件。江西無掩膜版光刻機光刻紙光刻機工藝層面,模壓版壓印需控制溫度(80-120℃)與壓力(5...
光刻紙在禮品包裝中的應用,是通過立體光效突破傳統包裝的平面視覺局限,將 “包裝” 轉化為 “情感傳遞載體”,進而提升產品附加值。這種立體光效并非簡單的光影反射,而是依托光刻紙表面微米級微結構(如多層光柵、棱錐陣列)與光線的互動 —— 當光線照射時,微結構會根據觀察角度形成 “層次化光影變化”:例如珠寶禮品盒采用光刻紙時,盒身可呈現 “底層啞光質感 + 表層璀璨光斑” 的疊加效果,傾斜角度下,光斑隨動作流動,仿佛珠寶的折射光澤,與內部產品形成視覺呼應,讓包裝與禮品的 “屬性” 深度綁定,消費者一眼即可感知產品的品質定位。雙面光刻機包含運動控制系統保障運行精度。長沙無掩膜版光刻機防偽紙光刻機成本控...
工藝協同進一步強化視覺穩定性:深紫外光刻前,光刻紙經 UV 底涂處理(平整度誤差≤0.5μm),為高精度圖案提供平整基底,避免基材起伏導致的圖案變形;光刻后覆蓋的聚氨酯耐磨涂層(厚度 5-8μm)則保護微米級圖案不被摩擦損壞,確保長期使用中視覺細節不衰減。這種 “高精度圖案 + 穩定視覺表現” 的組合,讓包裝在貨架上能快速吸引消費者目光,同時通過獨特的微觀細節建立品牌專屬視覺符號,有效提升產品在同類包裝中的辨識度,尤其適配奢侈品、限量版禮盒等對視覺差異化要求嚴苛的領域。光刻機光刻圖案 + 多道后續工藝制成光刻紙,可用于煙類、酒類、化妝品包裝及禮品、文具、裝飾領域。靜安區全息光刻機防偽紙光刻機U...
光刻紙生產中的UV光油配方直接影響光變效果與耐用性,其成分需按比例細致調配。典型配方包含30-60份丙烯酸樹脂、3-7份光引發劑、30-60份UV單體及0.5-2份助劑。UV單體可選用乙氧化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等類型,光引發劑則常用4-(2-乙酰氧基乙氧基)二苯甲酮或1-羥基環己基苯基甲酮。這種配方的光油經250lpi網紋輥涂布后,固化厚度控制在0.15mm,能有效承載微納結構圖案,且具備良好的耐磨性與耐化學性,適配多種包裝場景。雙面光刻機的圖像處理系統助力圖案識別。天津無掩膜版光刻機定位印刷光刻機在成品應用領域,光刻紙的滲透側重 “場景化 + 價值升級”:特色卡牌...
穩定固化帶來雙重保障:一方面,UV 涂層固化均勻性確保光刻紙微結構(如多層光柵、棱錐陣列)成型精度,避免因局部固化不足導致微結構變形,影響 3D 變幻圖像的縱深感;另一方面,完全固化的 UV 涂層與聚氨酯耐磨層形成協同防護,提升光刻紙抗刮擦性能(耐磨次數可達 500 次以上),契合包裝的實用需求。此外,連續化加工模式下,設備可實時監測固化效果(通過光學傳感器檢測涂層光澤度與固化度),自動調整參數,確保批量生產中每卷光刻紙的 UV 涂層固化狀態一致,避免批次差異影響包裝視覺統一性,尤其適配煙酒、奢侈品包裝的大規模生產需求。八色 UV 膠印與壓凹凸模切工藝疊加,讓光刻紙呈現鉑金浮雕質感與觸感油立體...
光刻紙在 OPPO Find X8 Pro 包裝中的應用,通過 “產品設計呼應 + 光效控制”,讓包裝成為設備光影美學的延伸。依托連線定位光刻壓印工藝,包裝可實現多區域光影分區設計,與手機的 “浮光寰宇” 設計語言深度契合 —— 盒身主體采用與機身 “晴空航線” 配色呼應的光柵微結構,垂直觀察呈現溫潤珠光,傾斜時浮現流動的星軌光影,復刻手機背部的光影漸變質感。關鍵區域的光效設計更具針對性:鏡頭模組展示區采用 “閃光砂紋理 + 線條狀光影” 復合微結構,模擬手機 3.58mm 超薄鏡頭模組的棱鏡折射效果,光線照射時可見類似哈蘇人像鏡頭的星芒光斑;品牌 LOGO 區域則以高密度棱錐微結構強化光澤,...
光刻工藝則為局部強化提供定位支撐:通過菲林曝光制版預先在卡紙重點圖案區域形成感光涂層,其位置精度誤差可控制在 ±0.02mm 內,確保定制模壓版的局部微結構能與感光涂層對齊。壓印時,設備會針對重點區域動態調整工藝參數:溫度提升至 100-130℃(略高于背景區域 5-10℃),壓力增至 8-12MPa,讓重點區域的微結構更完整復刻;背景區域則保持常規參數(80-100℃、5-8MPa),避免過度壓印導致質感失衡。這種局部參數調控既強化了重點圖案的微結構成型效果,又保護了背景區域的基礎光效。光刻紙用于特色卡牌制作,能呈現清晰的浮雕質感與光變效果。浦東新區無掩膜版光刻機防偽包裝光刻機光繪及菲林復制...
工藝協同進一步強化視覺穩定性:深紫外光刻前,光刻紙經 UV 底涂處理(平整度誤差≤0.5μm),為高精度圖案提供平整基底,避免基材起伏導致的圖案變形;光刻后覆蓋的聚氨酯耐磨涂層(厚度 5-8μm)則保護微米級圖案不被摩擦損壞,確保長期使用中視覺細節不衰減。這種 “高精度圖案 + 穩定視覺表現” 的組合,讓包裝在貨架上能快速吸引消費者目光,同時通過獨特的微觀細節建立品牌專屬視覺符號,有效提升產品在同類包裝中的辨識度,尤其適配奢侈品、限量版禮盒等對視覺差異化要求嚴苛的領域。UV 底涂經局部涂布與空壓干燥,為光刻紙圖案提供平整附著基礎。金山區無掩膜版光刻機光刻機雙面光刻機的運動控制系統通過 “高精度...
雙面光刻機的運動控制系統通過 “高精度位移控制 + 雙面協同調節”,為光刻紙微米級加工提供穩定的機械運動支撐,是保障正反面圖案對齊精度、批量生產一致性的關鍵。其由伺服驅動單元、納米級位置反饋模塊、雙面同步控制組件構成,深度適配光刻紙從基材輸送到圖案曝光的全流程精度需求。在位移精度控制上,伺服驅動單元采用永磁同步伺服電機,配合精密滾珠絲杠導軌(定位精度≤±1μm),可實現光刻紙基材輸送、曝光頭位移的微幅調節。例如加工化妝品禮盒光刻紙時,需將曝光頭定位至正反面預設圖案區域(偏差允許值<0.3μm),伺服電機通過脈沖寬度調制(PWM)信號驅動,每步位移精度達 0.001μm,避免因機械傳動誤差導致的...
UV 固化系統的分層調控是重點:設備搭載多組 UV-LED 燈組,可根據光刻紙 UV 涂層的成分差異(如感光樹脂的光敏感波長、聚氨酯的固化需求)調整燈組功率(200-600W/cm2)與照射距離(5-10mm)。例如針對含聚丙烯酸的感光涂層,通過 385nm 波長 UV 燈組低功率預固化,避免涂層表層過快固化導致內部溶劑殘留;再經 405nm 波長燈組高功率深度固化,確保涂層完全交聯,形成致密保護膜。同時,燈組間配備冷卻裝置,通過冷風循環控制基材溫度(保持在 40-50℃),防止高溫導致金銀卡紙基底的金屬鍍膜氧化,或 UV 涂層因熱收縮產生裂紋。集成光刻定位技術的防偽光刻紙,通過微納結構設計實...
連線定位光刻壓印工藝有效平衡了光刻紙的效果與成本,特別適配快消品包裝需求。其主要流程始于紙張表面處理,先通過250lpi網紋輥局部涂布UV底涂,經空壓干燥后印刷圖文并烘干。隨后涂布由丙烯酸樹脂、光引發劑等組成的UV光油,固化至0.15mm的半固化狀態。關鍵步驟在于通過加熱至30-50℃的壓印輥,將定制模壓版上的微結構紋路壓印至光油層,繼而經10-15小時恒溫恒濕熟化。這種工藝無需定制定位紙,可在同版面不同區域實現鉑金、水晶等多樣光變效果,有效縮短生產周期。伊利 QQ 星奶粉罐采用光刻紙動態視覺設計,隨角度變換呈現光影層次與品牌標識。崇明區光刻機防偽紙光刻機工藝協同進一步強化視覺穩定性:深紫外光...
工藝可在同版面設計差異化微結構:例如在護膚品禮盒版面中,品牌 LOGO 區域壓印高密度棱錐微結構,呈現強光澤動態光變;成分說明區域采用低密度光柵微結構,形成柔和啞光光變;防偽標識區域則壓印特殊紋理微結構,呈現角度專屬光變 —— 三類光效通過一次連線壓印完成,既避免了多次加工導致的光效斷層,又減少工序成本。且該工藝與前文提及的 UV 底涂、聚氨酯樹脂涂層高度兼容:平整的 UV 底涂保證壓印時微結構成型均勻,耐磨樹脂涂層則讓不同光變區域均具備抗刮擦性能,契合日化產品頻繁觸摸的使用場景。光刻紙用于特色卡牌制作,能呈現清晰的浮雕質感與光變效果。湖北光刻機光刻機成本降低體現在兩方面:一是省去定制定位紙的...
定制模壓版配合光刻工藝實現卡紙局部重點圖案強化,在于 “微結構差異化設計 + 工藝對位”,讓品牌 LOGO、裝飾等重點元素從整體版面中脫穎而出。定制模壓版會針對重點圖案區域進行專屬微結構雕刻:例如強化化妝品禮盒的品牌 LOGO 時,LOGO 區域雕刻高密度(1200-1500 線 / 英寸)的棱錐微結構,而非重點的背景區域只采用低密度(500-600 線 / 英寸)的淺紋微結構 —— 這種差異化設計使重點圖案在光線照射下,通過更強的定向反射呈現高亮光澤,與背景的柔和質感形成鮮明對比,視覺上自然聚焦。數據 I/O 單元保障雙面光刻機數據傳輸。安徽光刻機光刻機新型光刻材料中添加的聚丙烯酸與聚氨酯樹...
穩定固化帶來雙重保障:一方面,UV 涂層固化均勻性確保光刻紙微結構(如多層光柵、棱錐陣列)成型精度,避免因局部固化不足導致微結構變形,影響 3D 變幻圖像的縱深感;另一方面,完全固化的 UV 涂層與聚氨酯耐磨層形成協同防護,提升光刻紙抗刮擦性能(耐磨次數可達 500 次以上),契合包裝的實用需求。此外,連續化加工模式下,設備可實時監測固化效果(通過光學傳感器檢測涂層光澤度與固化度),自動調整參數,確保批量生產中每卷光刻紙的 UV 涂層固化狀態一致,避免批次差異影響包裝視覺統一性,尤其適配煙酒、奢侈品包裝的大規模生產需求。新型光刻材料以金銀卡紙為底,覆涂料與轉移膜,呈現 3D 變幻圖像。北京UV...
以金銀卡紙為底的新型光刻材料,通過 “基底光澤強化 + 涂層微結構控光 + 轉移膜成像” 的三層協同,突破平面視覺局限,實現極具縱深感的 3D 變幻圖像。金銀卡紙作為基底,自帶高密度金屬鍍膜層,能反射出均勻且明亮的金屬光澤 —— 這種光澤并非單一反光,而是具備定向反射特性,可作為 3D 效果的 “光影底色”,為后續圖像提供 “立體支撐面”,避免普通紙張因反光弱導致的 3D 層次感模糊。覆蓋的涂料(多為含感光樹脂的復合體系)是 3D 變幻的重點:涂料經光刻工藝制成微米級立體微結構陣列(如多層嵌套光柵、階梯式棱錐結構),這些結構能控制光線的折射與反射路徑 —— 當光線照射時,不同深度的微結構會讓光...
光澤度提升則依托 “表面平整化 + 光效增強”:精密拉伸讓復合薄膜表面粗糙度控制在 0.1μm 以內,比傳統銅版紙(粗糙度 0.5-1μm)更平整,減少光線散射;同時,透明復合層可放大光刻紙微結構的反光效果 —— 例如與八色 UV 膠印的鉑金油墨配合時,平整復合面讓金屬光澤反射更均勻,避免銅版紙表面凹凸導致的光澤斷層,使包裝整體光澤度提升 30%,且光澤持久性更強(經 200 次摩擦測試后,光澤保留率仍達 90%,遠超傳統銅版紙的 60%)。該工藝還與光刻紙特性兼容:復合后的基材平整度可保障后續模壓版壓印的微結構成型精度,避免因基材起伏導致的光變斷層;同時,復合層的耐候性可保護光刻紙微結構與 ...
光刻紙與激光壓印技術的結合,通過技術互補實現 “定制靈活度” 與 “成本可控性” 的平衡。激光壓印依托數字化控制,無需傳統壓印的金屬模具,可直接通過調整激光功率、掃描路徑等參數,在光刻紙表面復刻不同精度的微結構 —— 小到 0.05 微米的精細紋理,大到厘米級的立體圖案,均能快速迭代。例如為文創產品定制專屬光影紋路時,無需等待模具制作,只需修改數字圖紙即可切換設計方案,滿足小批量、多批次的定制需求,且圖案邊緣精度可達微米級,讓動態光影效果更細膩。光刻機圖像處理系統提升圖案轉移準確性。虹口區光刻機防偽紙光刻機成本降低體現在兩方面:一是省去定制定位紙的材料成本,定位紙需按基材尺寸專屬定制,單價約 ...
光刻紙與激光壓印技術的結合,通過技術互補實現 “定制靈活度” 與 “成本可控性” 的平衡。激光壓印依托數字化控制,無需傳統壓印的金屬模具,可直接通過調整激光功率、掃描路徑等參數,在光刻紙表面復刻不同精度的微結構 —— 小到 0.05 微米的精細紋理,大到厘米級的立體圖案,均能快速迭代。例如為文創產品定制專屬光影紋路時,無需等待模具制作,只需修改數字圖紙即可切換設計方案,滿足小批量、多批次的定制需求,且圖案邊緣精度可達微米級,讓動態光影效果更細膩。光刻機光刻圖案 + 多道后續工藝制成光刻紙,可用于煙類、酒類、化妝品包裝及禮品、文具、裝飾領域。陜西光刻機防偽包裝光刻機專業廠家的光刻紙小樣定制,通過...
在成品應用領域,光刻紙的滲透側重 “場景化 + 價值升級”:特色卡牌(集換式游戲卡、紀念卡)借助光刻微結構與聚氨酯耐磨涂層,實現浮雕質感與光變效果,經 5000 次摩擦測試仍保持光效,滿足卡牌 “長期收藏 + 反復使用” 需求;電子設備包裝(如 OPPO Find X8 Pro 禮盒)以光刻紙的動態光影呼應設備設計語言,配合精密拉伸復合工藝的高光澤度,讓包裝成為品牌調性的延伸;文創成品(如書簽、裝飾畫)則通過定制模壓版工藝,在光刻紙上呈現國風紋樣的 3D 光變效果,兼具美學價值與文化屬性,適配文創市場 “個性化 + 收藏性” 需求。這種雙領域滲透既依托光刻紙的技術多樣性(挺度、光變、耐磨、防偽...
光刻點陣全息技術與真空噴鋁工藝的結合,通過 “微觀防偽結構 + 金屬質感基底” 的協同,打造出兼具高防偽門檻與強視覺吸引力的包裝方案。光刻點陣全息技術以微米級點陣陣列(單點點陣尺寸 0.5-2 微米)為基礎,每個點陣可編碼專屬光學信息 —— 通過菲林曝光制版,在包裝關鍵區域(如品牌 LOGO、防偽標識)形成無序的點陣分布,肉眼觀察呈現動態全息效果(如角度變化時浮現專屬圖案、數字),且需光學設備解碼點陣信息,仿制者難以復刻點陣排列規律,形成一道防偽屏障。光刻點陣全息技術與真空噴鋁工藝結合,打造兼具防偽與美學價值的包裝解決方案。上海UV光刻機防偽紙光刻機系統還強化圖案識別的防偽與質量檢測價值:針對...
穩定固化帶來雙重保障:一方面,UV 涂層固化均勻性確保光刻紙微結構(如多層光柵、棱錐陣列)成型精度,避免因局部固化不足導致微結構變形,影響 3D 變幻圖像的縱深感;另一方面,完全固化的 UV 涂層與聚氨酯耐磨層形成協同防護,提升光刻紙抗刮擦性能(耐磨次數可達 500 次以上),契合包裝的實用需求。此外,連續化加工模式下,設備可實時監測固化效果(通過光學傳感器檢測涂層光澤度與固化度),自動調整參數,確保批量生產中每卷光刻紙的 UV 涂層固化狀態一致,避免批次差異影響包裝視覺統一性,尤其適配煙酒、奢侈品包裝的大規模生產需求。光刻機光刻圖案 + 多道后續工藝制成光刻紙,可用于煙類、酒類、化妝品包裝及...
光刻工藝則為局部強化提供定位支撐:通過菲林曝光制版預先在卡紙重點圖案區域形成感光涂層,其位置精度誤差可控制在 ±0.02mm 內,確保定制模壓版的局部微結構能與感光涂層對齊。壓印時,設備會針對重點區域動態調整工藝參數:溫度提升至 100-130℃(略高于背景區域 5-10℃),壓力增至 8-12MPa,讓重點區域的微結構更完整復刻;背景區域則保持常規參數(80-100℃、5-8MPa),避免過度壓印導致質感失衡。這種局部參數調控既強化了重點圖案的微結構成型效果,又保護了背景區域的基礎光效。定制模壓版配合光刻工藝,可在卡紙局部實現重點圖案強化效果。奉賢區無掩膜版光刻機印刷紙光刻機光刻紙在 OPP...
UV 底涂通過局部涂布與空壓干燥的組合工藝,為光刻紙圖案打造了 “高平整度、強附著力” 的底層基礎,源于材料特性與工藝設計的匹配。UV 底涂多采用含活性稀釋劑與光引發劑的樹脂體系,固化后形成致密薄膜,既能與光刻紙基材(如紙質、薄膜)形成化學鍵結合,又能為后續感光樹脂層提供平滑附著面。局部涂布工藝則針對基材表面差異實現 “補平”:光刻紙基材可能存在微小纖維凸起或薄膜拉伸痕跡,通過數字化涂布設備,可在瑕疵區域噴涂更高劑量的 UV 底涂,填補凹陷、覆蓋凸起,而平整區域只薄涂即可 —— 這種差異化處理既避免了全域厚涂導致的材料浪費,又能將基材表面粗糙度控制在 2 微米以內,為精細圖文還原掃清 “物理障...
壓凹凸模切工藝則負責塑造浮雕觸感與觸感油立體效果:首先定制與圖案輪廓匹配的凹凸模切版,根據鉑金浮雕的設計需求(如品牌 LOGO、花紋邊緣)調整凹凸深度(通常 0.3-0.8mm),在膠印固化后對光刻紙進行壓印 —— 模切版的凸面按壓圖案區域,使光刻紙基材(配合 UV 底涂的韌性)形成物理凸起,呈現浮雕輪廓;隨后在壓印后的凸起區域涂布觸感油,通過 UV 二次固化,讓觸感油緊密附著于浮雕表面,形成油潤細膩的立體觸感(如類似絲綢的順滑度或皮革的微彈感)。工藝順序嚴格把控為 “先膠印→再壓凹凸→后涂觸感油”,避免油墨層被模切壓力破壞,同時觸感油與前文提及的聚氨酯耐磨涂層兼容,可共同抵御刮擦,確保立體觸...
光刻紙生產中的UV光油配方直接影響光變效果與耐用性,其成分需按比例細致調配。典型配方包含30-60份丙烯酸樹脂、3-7份光引發劑、30-60份UV單體及0.5-2份助劑。UV單體可選用乙氧化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等類型,光引發劑則常用4-(2-乙酰氧基乙氧基)二苯甲酮或1-羥基環己基苯基甲酮。這種配方的光油經250lpi網紋輥涂布后,固化厚度控制在0.15mm,能有效承載微納結構圖案,且具備良好的耐磨性與耐化學性,適配多種包裝場景。全息防偽標簽、全息防偽包裝,專注全息防偽技術、材料的研發及制作光刻機發揮重要作用!珠海光刻機光刻紙光刻機 全息光刻定位紙作為環保屬性...