線性相關分析：線性相關分析指出兩個隨機變量之間的統計聯系。兩個變量地位平等，沒有因變量和自變量之分。因此相關系數不能反映單指標與總體之間的因果關系。線性回歸分析：線性回歸是比線性相關更復雜的方法，它在模型中定義了因變量和自變量。但它只能提供變量間的直接效應而不能顯示可能存在的間接效應。而且會因為共線性的原因，導致出現單項指標與總體出現負相關等無法解釋的數據分析結果。結構方程模型分析：結構方程模型是一種建立、估計和檢驗因果關系模型的方法。模型中既包含有可觀測的顯變量，也可能包含無法直接觀測的潛變量。結構方程模型可以替代多重回歸、通徑分析、因子分析、協方差分析等方法，清晰分析單項指標對總體的作用和單項指標間的相互關系。分類任務：準確率、精確率、召回率、F1-score、ROC曲線和AUC值等。普陀區(qū)智能驗證模型供應

用交叉驗證的目的是為了得到可靠穩(wěn)定的模型。在建立PCR 或PLS 模型時，一個很重要的因素是取多少個主成分的問題。用cross validation 校驗每個主成分下的PRESS值，選擇PRESS值小的主成分數。或PRESS值不再變小時的主成分數。常用的精度測試方法主要是交叉驗證，例如10折交叉驗證(10-fold cross validation)，將數據集分成十份，輪流將其中9份做訓練1份做驗證，10次的結果的均值作為對算法精度的估計，一般還需要進行多次10折交叉驗證求均值，例如：10次10折交叉驗證，以求更精確一點。浦東新區(qū)優(yōu)良驗證模型信息中心避免過擬合：確保模型在驗證集和測試集上的性能穩(wěn)定，避免模型在訓練集上表現過好而在未見數據上表現不佳。

光刻模型包含光學模型和光刻膠模型，其中光刻膠模型描述了光刻膠曝光顯影過程中發(fā)生的物理化學反應[1]。光刻膠模型可以為光刻膠的研發(fā)和光刻工藝的優(yōu)化提供指導。然而，由于模型中許多參數不可直接測量或測量較為困難，通常采用實際曝光結果來校準模型，即光刻膠模型的校準[2]。鑒于模型校準的必要性，業(yè)界通常需要花費大量精力用于模型校準的實驗與結果，如圖1所示 [3]。光刻膠模型的校準的具體流程如圖2所示 [2]。光刻膠模型校準主要包含四個部分：實驗條件的對標、光刻膠形貌的測量、模型校準、模型驗證。

***，選擇特定的優(yōu)化算法并進行迭代運算，直到參數的取值可以使校準圖案的預測偏差**小。模型驗證模型驗證是要檢查校準后的模型是否可以應用于整個測試圖案集。由于未被選擇的關鍵圖案在模型校準過程中是不可見，所以要避免過擬合降低模型的準確性。在驗證過程中，如果用于模型校準的關鍵圖案的預測精度不足，則需要修改校準參數或參數的范圍重新進行迭代操作。如果關鍵圖案的精度足夠，就對測試圖案集的其余圖案進行驗證。如果驗證偏差在可接受的范圍內，則可以確定**終的光刻膠模型。否則，需要重新選擇用于校準的關鍵圖案并重新進行光刻膠模型校準和驗證的循環(huán)。對有窮狀態(tài)系統，這個問題是可判定的，即可以用計算機程序在有限時間內自動確定。

模型解釋：使用特征重要性、SHAP值、LIME等方法解釋模型的決策過程，提高模型的可解釋性。模型優(yōu)化：根據驗證和測試結果，對模型進行進一步的優(yōu)化，如改進模型結構、增加數據多樣性等。部署與監(jiān)控：將驗證和優(yōu)化后的模型部署到實際應用中。監(jiān)控模型在實際運行中的性能，及時收集反饋并進行必要的調整。文檔記錄：記錄模型驗證過程中的所有步驟、參數設置、性能指標等，以便后續(xù)復現和審計。在驗證模型時，需要注意以下幾點：避免過擬合：確保模型在驗證集和測試集上的性能穩(wěn)定，避免模型在訓練集上表現過好而在未見數據上表現不佳。根據任務的不同，選擇合適的性能指標進行評估。普陀區(qū)智能驗證模型供應

數據集劃分：將數據集劃分為訓練集、驗證集和測試集。普陀區(qū)智能驗證模型供應

模型驗證是測定標定后的模型對未來數據的預測能力（即可信程度）的過程，它在機器學習、系統建模與仿真等多個領域都扮演著至關重要的角色。以下是對模型驗證的詳細解析：一、模型驗證的目的模型驗證的主要目的是評估模型的預測能力，確保模型在實際應用中能夠穩(wěn)定、準確地輸出預測結果。通過驗證，可以發(fā)現模型可能存在的問題，如過擬合、欠擬合等，從而采取相應的措施進行改進。二、模型驗證的方法模型驗證的方法多種多樣，根據具體的應用場景和需求，可以選擇適合的驗證方法。以下是一些常用的模型驗證方法：普陀區(qū)智能驗證模型供應

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