CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑，可提供更精確更穩(wěn)定的測量結(jié)果，有效控制產(chǎn)品的質(zhì)量。應(yīng)用實例：光催化活性高，高度耐酸堿耐腐蝕。二氧化鈦粒度分布分析，穩(wěn)定性二氧化鈦，二氧化鈦常被用作顏料、防曬霜和增稠劑。因此它有著大量的應(yīng)用，從油漆到食用色素到化妝品和護膚品，因此二氧化鈦的粒徑測量十分重要。例如納米二氧化鈦顆?？梢杂糜诜罆袢橐?，因為它們散射的可見光比用于普通涂料或者顏料中的二氧化鈦顆粒小，同時還能提供紫外線保護。馳光機電科技有限公司以快的速度提供前列的產(chǎn)品質(zhì)量和好的價格及完善的售后服務(wù)。陜西高靈敏度納米粒度分析儀哪家好

應(yīng)用實例：測量高純氧化鋁粉。一般來說，含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁，其特性有耐化學(xué)腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍寶石晶體、高級陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料；99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發(fā)光材料、特殊陶瓷、高級涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。粒度是高純氧化鋁粉產(chǎn)品的重要指標(biāo)，CPS納米粒度分析儀能給您帶來確切穩(wěn)定的測量結(jié)果。使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖。山西病毒顆粒分析儀馳光機電通過專業(yè)的知識和可靠技術(shù)為客戶提供服務(wù)。

而化學(xué)機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關(guān)鍵制程，國內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認(rèn)真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導(dǎo)致?lián)p害的產(chǎn)生。

馳光機電小編溫馨提示：為了準(zhǔn)確地測量顆粒直徑，EyeTech必須區(qū)分在焦點中心的和離開焦點中心的交互作用，因為只有在焦點中心的交互信號才能提供真實的顆粒直徑。這個可以采用脈沖形狀過濾器可以實現(xiàn)。只有衍生信號窄的脈沖才被認(rèn)為是在中心的交互信號，然后被加到粒徑分布數(shù)據(jù)中。顆?；ハ嘧饔卯a(chǎn)生光阻：可記錄每個顆粒數(shù)據(jù)，直接測量真實粒徑，與光學(xué)及其他性質(zhì)無關(guān)，粒徑濃度均可檢測，無需校正；儀器的光學(xué)測量系統(tǒng)（主機）與樣品分散系統(tǒng)完全單獨的。馳光機電科技有限公司傾城服務(wù)，確保產(chǎn)品質(zhì)量無后顧之憂。

而CMP工藝離不開研磨料的發(fā)展，那么對于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學(xué)腐蝕和機械力對加工過程中的硅晶圓或其它襯底材料進行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面，將拋光墊放置在研磨盤上，拋光時，旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，由亞微米或納米磨粒和化學(xué)溶液組成的研磨液在硅片表面和拋光墊之間流動，然后研磨液在拋光墊的傳輸和離心力的作用下，均勻分布其上，在硅片和拋光墊之間形成一層研磨液液體薄膜。馳光機電科技以精良的產(chǎn)品品質(zhì)和優(yōu)先的售后服務(wù)，全過程滿足客戶的需求。山東粒度分析儀報價

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升降臺式樣品池送進定位及環(huán)境光遮蔽系統(tǒng)，使光子相關(guān)譜探測系統(tǒng)不只體積小，而且具有很強的抗干擾能力。高精度的測試溫度控制系統(tǒng)：單獨的循環(huán)溫控槽可在2-95℃范圍內(nèi)任意設(shè)定，其控制精度達0.1℃。微量樣品池/標(biāo)準(zhǔn)樣品池：可以使用3.5ML的標(biāo)準(zhǔn)樣品池外，還有適應(yīng)于稀有貴重樣品的0.3ML微樣池。環(huán)境溫度：在5-35℃的環(huán)境中，本儀器都能正常使用。納米粒度儀樣品池恒溫箱及恒溫DI水供應(yīng)系統(tǒng)：有利于提高測試溫度控制精度同時減少等待樣品池?zé)崞胶獾臅r間，提高儀器的實際測試精度和工作效率。陜西高靈敏度納米粒度分析儀哪家好

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