UHR型可達1%，良好性能：CPS高精度納米粒度分析儀能夠提供高分辨率準確的分析結果，即使對于使用其它分析方法非常難分析的樣品，CPS依然能夠提供滿意的分析結果。高分辨率：CPS具有強大的分辨率，粒徑差別在2%以內的窄峰可以被完全分辨出來。所示樣品包含五種不同的聚苯乙烯標定顆粒，在圖中可以清楚地看到它們完全被分辨出來呈現為五個單獨的粒度峰。高準確度：可追溯&校準到NIST標準顆粒的可靠、重復性結果。高精度：與SEM/顯微鏡分析結果的對比。馳光機電設備的引進更加豐富了公司的設備品種，為用戶提供了更多的選擇空間。重慶激光粒度粒形分析儀價格

而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環節。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致損害的產生。北京高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀價格馳光機電科技有限公司周邊生態環境狀況好。

為了實現較佳過程控制，樣品測量時間為5分鐘左右。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內。C-Quand在線XRF分析儀是一款真正的過程分析儀，專為化工廠的惡劣環境而設計。分析儀配置和操作簡單。它配有模擬和串行數據傳輸協議。C-Quand在線 XRF分析儀可以連續測量多達四個流路，每個流都有自己的校準曲線。此外，C-Quand在線XRF分析儀有各種方法來檢查和確保可靠的數據。每小時分析一次內置的固體參考。有了這個內置的自動參考，您將能夠在一年內實現無漂移過程測量。

CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業飛速發展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！公司地理位置優越，擁有完善的服務體系。

符合多項油品S元素分析國際和國家標準，例如ASTM D4294，ASTM D7212，GB/T 17040，GB/T 17606等。X射線管能耗低、只15W，使用壽命長達數十年。低背景硅“漂移”檢測器保證高分辨率，檢測限高達0.1ppm。除了標配的Windows操作系統，還提供了備選的Linux操作系統，保證儀器的安全性（中美貿易戰下的新形勢要求）。中國PTA行業競爭格局分析，從我國PTA產能分布來看，產能占比較大的廠家是恒力石化，2020年占比20%；產能占比排第二的是逸盛大化，產能占比為10%，其次是逸盛石化，產能占比9%；國內前面十PTA廠家產能合計占比77%。全球PTA計劃投產產能趨勢。馳光機電科技傾城服務，確保質量無后顧之憂。四川粒度分析儀哪家好

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光子相關光譜法就根據特定方向的光子漲落起伏分析其顆粒大小。算法：采用除符合GB/T19627-2005/IS013321：1996標準的累積法外，還有R-R算法，可以算出納米粒子樣品的D50、D10及D90，并給出分布曲線。高靈敏度與信噪比：探測器采用專業級進口光電倍增管（PMT），對光子信號具有較高的靈敏度和信噪。納米粒度儀分辨能力：中心部件采用CR-70-1-245數字相關器，具有識別5ns的光子脈沖分辨率。運算功能：采用高速數字相關器CR-70-1-245有245個通道進行數據采集與實時相關運算。穩定的光路系統：采用635nmLD激光光源和光纖技術搭建而成的光路系統。重慶激光粒度粒形分析儀價格

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