被測物料不溶于水，就用自來水作為試劑，以節約成本；被測物料在水中懸浮，可用乙醇將粉末濕潤后放入樣品槽；超聲分散的時間為15-60秒，測試結果一直穩定，不可再變化，說明樣粉已被充分分散。有些試樣由于強度低，超聲分散太長，有可能產生粉碎，使測試結果越來越細。有些試樣不易分散，也可加長分散時間。激光粒度儀的相關知識點就先說到這里了，這款產品還有很多的常識等著各位來發現與了解，如果您還想要了解更多內容，還請先關注好我們，華致林小編會不定期在此跟大家分享更多的信息。馳光機電和客戶攜手誠信合作，共創輝煌！內蒙古激光粒度粒形分析儀報價

磨料的粒度測量：以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關鍵性的作用，CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米，典型的過大聚集體為1-10微米，并出現在ppm范圍內。顆粒表征的挑戰來自于精確確定納米級顆粒尺寸，同時還識別出相對較少的微米級聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來。寧夏激光粒度分析儀廠家馳光機電始終以適應和促進工業發展為宗旨。

對于粒徑分布范圍很寬的樣品，通過可選的速度調節功能圓盤，只需常規圓盤分析時間的1/20。經過CPS納米粒度儀對裂解后炭黑進行粒徑測試后的結果所示：與掃描電鏡所顯示的結果基本一致，裂解后的炭黑較小粒徑為3um，較大可至50多微米，并且出現很多峰值，證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實反映了不同炭黑粒徑的分布狀態。隨著半導體工業飛速發展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。作為芯片制造不可或缺的一環，CMP工藝在設備和材料領域歷來是受歡迎的。

CPS分析儀基本原理：CPS納米粒度分析儀依據Stokes定律，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量。待測樣品從圓盤中心進入高速旋轉的圓盤，在離心力的作用下發生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距離圓盤的邊緣固定位置設有激光檢測器，顆粒按尺寸大小依次通過探測器，儀器記錄顆粒通過探測器的時間，由于所有顆粒走過的路程都一樣，因此，顆粒運動所需的時間與顆粒本身尺寸的平方成反比，激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度。馳光機電科技有限公司始終以適應和促進工業發展為宗旨。

使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖，表明儀器的重復性較好，樣品的粒徑為0.586微米。分析氧化鋁粉末時，為防止樣品發生凝聚，需要添加入少量的乙酸。氧化鋅ZnO粉末：氧化鋅俗稱鋅白，是鋅的一種氧化物。氧化鋅是一種常用的化學添加劑，大量地應用于塑料、硅酸鹽制品、合成橡膠、潤滑油、油漆涂料、藥膏、粘合劑、食品、電池、阻燃劑等產品的制作中。氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優良的常溫發光性能，在半導體領域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發光二極管等產品中均有應用。馳光機電以創百年企業、樹百年品牌為使命，傾力為客戶創造更大利益！廣東激光粒度粒形分析儀

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