能夠允許用戶為不同樣品設置標準測量方法SOP，并且可以對SOP進行編輯和保存。EyeTech 是一個模塊化的系統，可以選配10種不同的測量池。更換測量池簡便快速，儀器便于分析各種顆粒，如液相、乳化液、干粉、纖維、磁粉、加熱的液體和氣溶膠等。這些測量池模塊都是配合不同的分析方法而開發的，確保能夠根據樣品的特性來測量。纖維測量池：ACM-104L，氣溶膠測量池ACM-106，微流量測量池ACM-108，載玻片測量池ACM-110，加熱測量池ACM-111，自由落體測量池ACM-112。在每一次分析過程中，激光光束與顆粒之間發生了上百萬次的交互作用。馳光機電始終以適應和促進工業發展為宗旨。山東高靈敏度納米粒度分析儀價格

標定CPS使用的標定顆粒都與美國標準和技術研究院(NIST)的其它標準進行過交叉對比，確保均值、峰寬或者半峰寬等方面的誤差在±2%之內，而且顆粒的團聚性也符合要求。可選標定顆粒：直徑小于10微米的標定顆粒通常以懸液的形式保存在水中，當然也可以保存在非水基懸液中。大于10微米可以有三種形態，水基懸液，非水基懸液或者干粉狀態。每一套標定顆粒都有其粒度分析結果和分析證書。應用實例：PEDOT及其復合材料的粒徑測量PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導率、高度的環境穩定性。內蒙古高靈敏度納米粒度分析儀價格馳光機電科技從國內外引進了一大批先進的設備，實現了工程設備的現代化。

研磨液中的化學成分與硅片表面材料產生化學反應，將不溶的物質轉化為易溶物質，或者將硬度高的物質進行軟化，然后通過磨粒的微機械摩擦作用將這些化學反應物從硅片表面去除，溶入流動的液體中帶走，即在化學去膜和機械去膜的交替過程中實現平坦化的目的。其反應分為兩個過程：化學過程：研磨液中的化學品和硅片表面發生化學反應，生成比較容易去除的物質；物理過程：研磨液中的磨粒和硅片表面材料發生機械物理摩擦，去除化學反應生成的物質。

而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環節。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致損害的產生。馳光愿與各界朋友攜手共進，共創未來！

測量低密度顆粒：示差沉降法過去一般用于測量密度大于分散介質液體密度的顆粒，CPS開發了一項新的技術技術(US Patent5,786,898)。很多用常規示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質體)，現在可以方便地使用CPS進行分析，而且精度很高。速度調節：CPS開發了一種特殊的圓盤設計使得在分析過程中可以調節圓盤的轉速，而不會對沉降液體產生擾動，轉速可以在20倍范圍內升高或者降低，這樣一來就使得分析的動態范圍幾乎增大了20倍。馳光機電以顧客為本，誠信服務為經營理念。CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

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印刷和涂料，涂料：水基和油基涂料，微纖維涂料粘度改性劑，打印機/復印件墨粉，噴墨打印機墨水，炭黑，磁性材料。半導體：微磨料，CMP化學機械拋光。其他：納米微球，淀粉/面粉顆粒，顆粒團聚模式分析，標準顆粒。CPS納米粒度分析儀的操作軟件集數據于一體，主要包括以下特性：后臺數據采集，允許測量時瀏覽數據；重量，表面積，數量和吸收分布圖；可以在同一張圖表上顯示20個不同的分布結果；可定制的分布統計輸出結果；完整的粒度分布統計。山東高靈敏度納米粒度分析儀價格