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進(jìn)行光刻:
將設(shè)計(jì)好的電路掩模,置于光刻機(jī)的紫外射線下,然后再在它的下面放置Wafer,這一刻,Wafer上被光刻部分的光刻膠被融化掉,刻上了電路圖。然后將光刻膠去除,光刻膠上的圖案要與掩模上的圖案一致,然后進(jìn)行再次光刻。一般來說一個(gè)晶圓的電路要經(jīng)過多次光刻。而隨著技術(shù)革新,極紫光刻出現(xiàn)了,現(xiàn)階段光刻的效率變得比以前更高,甚至于可以達(dá)到光刻一次完成。
注射:
在真空下,將導(dǎo)電材料注入晶圓的電路內(nèi)部。其真空的標(biāo)準(zhǔn)比無菌室或ICU還要高出千萬倍。 機(jī)械手臂是機(jī)械人技術(shù)領(lǐng)域中得到*****實(shí)際應(yīng)用的自動(dòng)化機(jī)械裝置.南通晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂公司

晶圓作為半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵材料,其表面質(zhì)量和完整性直接決定了芯片的性能和可靠性。機(jī)械吸臂在搬運(yùn)晶圓過程中,必須要保證晶圓不受任何損傷和污染。任何微小的劃痕、顆粒污染或靜電放電都可能導(dǎo)致晶圓報(bào)廢,從而增加生產(chǎn)成本。因此,高精度、高可靠性的機(jī)械吸臂是確保晶圓質(zhì)量和成品率的重要保障。此外,隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,芯片制造工藝越來越復(fù)雜,晶圓尺寸也不斷增大,對晶圓搬運(yùn)的精度和穩(wěn)定性要求也越來越高。例如,在先進(jìn)的集成電路制造工藝中,晶圓的線寬已經(jīng)達(dá)到納米級別,這就要求機(jī)械吸臂在搬運(yùn)晶圓時(shí)的定位精度要達(dá)到亞微米甚至更高的級別。河源原裝晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂新報(bào)價(jià)手臂的剛性直接影響到手臂抓取工件時(shí)動(dòng)作的平穩(wěn)性、運(yùn)動(dòng)的速度和定位精度。

隨著半導(dǎo)體制造工藝向更小尺寸、更高集成度的方向發(fā)展,對機(jī)械吸臂的精度和穩(wěn)定性要求越來越高。在納米級的制造工藝中,吸臂的微小振動(dòng)、位置偏差或吸附力不均勻都可能對晶圓造成嚴(yán)重影響。因此,如何進(jìn)一步提高吸臂的運(yùn)動(dòng)精度和穩(wěn)定性,減少各種誤差因素的影響,是當(dāng)前面臨的一個(gè)重要挑戰(zhàn)。半導(dǎo)體制造車間的環(huán)境要求極為嚴(yán)格,需要在超凈、恒溫、恒濕的條件下進(jìn)行生產(chǎn)。機(jī)械吸臂在這樣的環(huán)境中運(yùn)行,需要具備良好的防塵、防靜電、耐腐蝕等性能。同時(shí),為了滿足不同工藝設(shè)備的接口要求和工作空間限制,吸臂的設(shè)計(jì)還需要具備更高的靈活性和兼容性。如何在滿足這些復(fù)雜環(huán)境和工藝要求的前提下,保證吸臂的可靠性和使用壽命,也是需要解決的關(guān)鍵問題。
可選地,所述托板包括:
主板;
排列成八字形的***支板和第二支板,在所述主板的同一側(cè)與所述主板固定連接;
所述主板靠近所述***支板和第二支板的一端、所述***支板遠(yuǎn)離所述主板的一端、所述第二支板遠(yuǎn)離所述主板的一端均設(shè)置有所述絨毛墊。
可選地,所述表面為平面。
另外,本實(shí)用新型還提供了一種晶圓傳輸裝置,其包括上述任一所述的機(jī)械手臂。
在本實(shí)用新型的技術(shù)方案中,機(jī)械手臂傳送晶圓時(shí),晶圓放置在托板的表面,并與絨毛墊接觸,借助晶圓與絨毛墊的絨毛之間的范德華力,晶圓被穩(wěn)穩(wěn)地附著在機(jī)械手臂上,不易發(fā)生平移,這樣不僅可以避免發(fā)生機(jī)械手臂碰傷,還可以提高晶圓的傳送速度以提高生產(chǎn)效率。
通過以下參照附圖對本實(shí)用新型的示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述,本實(shí)用新型的其它特征、方面及其優(yōu)點(diǎn)將會變得清楚。 運(yùn)動(dòng)元件。如油缸、氣缸、齒條、凸輪等是驅(qū)動(dòng)手臂運(yùn)動(dòng)的部件。

晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂主要由以下幾個(gè)部分組成:
吸盤:用于吸附晶圓,通常采用真空吸附原理。吸盤材料應(yīng)具有耐磨、耐腐蝕、低粒子產(chǎn)生等特性,以保證晶圓表面不受污染。
機(jī)械臂:用于支撐和移動(dòng)吸盤,實(shí)現(xiàn)晶圓在不同工藝設(shè)備間的傳送。機(jī)械臂應(yīng)具有高精度、高穩(wěn)定性和高剛性等特點(diǎn),以確保晶圓在傳送過程中的精確定位和平穩(wěn)運(yùn)輸。
傳動(dòng)系統(tǒng):為機(jī)械臂提供動(dòng)力,實(shí)現(xiàn)吸臂的伸縮、旋轉(zhuǎn)等動(dòng)作。傳動(dòng)系統(tǒng)通常采用電機(jī)、減速器、傳動(dòng)帶等部件組成,確保吸臂運(yùn)動(dòng)的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。
控制系統(tǒng):負(fù)責(zé)控制機(jī)械臂的運(yùn)動(dòng)軌跡、速度和加速度等參數(shù)??刂葡到y(tǒng)一般采用先進(jìn)的伺服控制技術(shù)和高精度傳感器,實(shí)現(xiàn)吸臂的高精度定位和穩(wěn)定運(yùn)行。 其特征在于:所述機(jī)械臂包括內(nèi)部具有真空腔體的鋁合金平板.河源原裝晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂新報(bào)價(jià)
如剛性差則會引起手臂在垂直平面內(nèi)的彎曲變形和水平面內(nèi)側(cè)向扭轉(zhuǎn)變形.南通晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂公司
背景技術(shù):
晶圓的生產(chǎn)與制作屬極為精密的加工技術(shù),其通常需借助晶圓傳輸裝置來進(jìn)行運(yùn)輸傳遞等作業(yè)。例如,準(zhǔn)備對晶圓進(jìn)行刻蝕加工時(shí),需要利用晶圓傳輸裝置將晶舟內(nèi)的待刻蝕晶圓傳輸至刻蝕機(jī)臺內(nèi)。
現(xiàn)有一種晶圓傳輸裝置包括機(jī)械手臂,該機(jī)械手臂的表面設(shè)有卡槽,晶圓用于放置在該卡槽內(nèi),以防止機(jī)械手臂在傳送晶圓時(shí)發(fā)生晶圓平移(即晶圓相對機(jī)械手臂運(yùn)動(dòng))。然而,現(xiàn)有機(jī)械手臂易出現(xiàn)碰撞損傷,另外,機(jī)械手臂的傳送晶圓效率較低,影響了生產(chǎn)效率。
南通晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂公司
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