國(guó)瑞熱控針對(duì)硒化銦等二維半導(dǎo)體材料制備需求，開發(fā)**加熱盤適配 “固 - 液 - 固” 相變生長(zhǎng)工藝。采用高純不銹鋼基體加工密封腔體，內(nèi)置銦原子蒸發(fā)溫控模塊，可精細(xì)控制銦蒸汽分壓，確保硒與銦原子比穩(wěn)定在 1:1。加熱面溫度均勻性控制在 ±0.5℃，升溫速率可低至 0.5℃/ 分鐘，為非晶薄膜向高質(zhì)量晶體轉(zhuǎn)化提供穩(wěn)定熱環(huán)境。設(shè)備支持 5 厘米直徑晶圓級(jí)制備，配合惰性氣體保護(hù)系統(tǒng)，避免材料氧化，與北京大學(xué)等科研團(tuán)隊(duì)合作驗(yàn)證，助力高性能晶體管陣列構(gòu)建，其電學(xué)性能指標(biāo)可達(dá) 3 納米硅基芯片的 3 倍。高效穩(wěn)定耐用三大優(yōu)勢(shì)，廣泛應(yīng)用于塑料封裝材料合成等領(lǐng)域。靜安區(qū)刻蝕晶圓加熱盤定制

針對(duì)12英寸及以上大尺寸晶圓的制造需求，國(guó)瑞熱控大尺寸半導(dǎo)體加熱盤以創(chuàng)新結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高效溫控！產(chǎn)品采用多模塊拼接式結(jié)構(gòu)，單模塊加熱面積可達(dá)1500cm2，通過標(biāo)準(zhǔn)化接口可靈活組合成更大尺寸加熱系統(tǒng)，適配不同產(chǎn)能的生產(chǎn)線需求！每個(gè)模塊配備**溫控單元，通過**控制系統(tǒng)協(xié)同工作，確保整個(gè)加熱面溫度均勻性控制在±1.5℃以內(nèi)！采用輕量化**度基材，在保證結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性的同時(shí)降低設(shè)備重量，便于安裝與維護(hù)！表面經(jīng)精密加工確保平整度，與大尺寸晶圓完美貼合，減少熱傳導(dǎo)損耗，為先進(jìn)制程中大規(guī)模晶圓的均勻加熱提供可靠解決方案！浦東新區(qū)陶瓷加熱盤定制專業(yè)售后服務(wù)團(tuán)隊(duì)，快速響應(yīng)及時(shí)處理，保障您的生產(chǎn)不間斷。

國(guó)瑞熱控氮化鋁陶瓷加熱盤以 99.5% 高純氮化鋁為基材，通過干壓成型與 1800℃高溫?zé)Y(jié)工藝制成，完美適配半導(dǎo)體高溫工藝需求。其熱導(dǎo)率可達(dá) 220W/mK，熱膨脹系數(shù)* 4.03×10??/℃，與硅晶圓熱特性高度匹配，有效避免高溫下因熱應(yīng)力導(dǎo)致的晶圓翹曲。內(nèi)部嵌入鎢制加熱元件，經(jīng)共燒工藝實(shí)現(xiàn)緊密結(jié)合，加熱面溫度均勻性控制在 ±1℃以內(nèi)，工作溫度上限提升至 800℃，遠(yuǎn)超傳統(tǒng)鋁合金加熱盤的 450℃極限。表面經(jīng)精密研磨拋光處理，平面度誤差小于 0.01mm，可耐受等離子體長(zhǎng)期轟擊無(wú)損傷，在晶圓退火、氧化等高溫工藝中表現(xiàn)穩(wěn)定，為國(guó)產(chǎn)替代提供高性能材質(zhì)解決方案。

面向深紫外光刻工藝對(duì)晶圓預(yù)處理的需求，國(guó)瑞熱控配套加熱盤以微米級(jí)溫控助力圖形精度提升！采用鋁合金基體與石英玻璃復(fù)合結(jié)構(gòu)，加熱面平面度誤差小于0.01mm，確保晶圓與光刻掩膜緊密貼合！通過紅外加熱與接觸式導(dǎo)熱協(xié)同技術(shù)，升溫速率達(dá)15℃/分鐘，溫度調(diào)節(jié)范圍60℃-120℃，控溫精度±0.3℃，適配光刻膠軟烘、堅(jiān)膜等預(yù)處理環(huán)節(jié)！表面經(jīng)防反射涂層處理，減少深紫外光反射干擾，且具備快速冷卻功能，從120℃降至室溫*需8分鐘，縮短工藝間隔！與上海微電子光刻機(jī)適配，使光刻圖形線寬偏差控制在5nm以內(nèi)，滿足90nm至28nm制程的精密圖形定義需求！低熱容設(shè)計(jì)升溫降溫快，實(shí)現(xiàn)高效熱循環(huán)，適合快速變溫工藝。

國(guó)瑞熱控推出加熱盤節(jié)能改造方案，針對(duì)存量設(shè)備能耗高問題提供系統(tǒng)升級(jí)！采用石墨烯導(dǎo)熱涂層技術(shù)提升熱傳導(dǎo)效率，配合智能溫控算法優(yōu)化加熱功率輸出，使單臺(tái)設(shè)備能耗降低20%以上！改造內(nèi)容包括加熱元件更換、隔熱層升級(jí)與控制系統(tǒng)迭代，保留原有設(shè)備主體結(jié)構(gòu)，改造成本*為新設(shè)備的40%！升級(jí)后的加熱盤溫度響應(yīng)速度提升30%，溫度波動(dòng)控制在±1℃以內(nèi)，符合半導(dǎo)體行業(yè)節(jié)能標(biāo)準(zhǔn)！已為華虹半導(dǎo)體等企業(yè)完成200余臺(tái)設(shè)備改造，年節(jié)約電費(fèi)超百萬(wàn)元，助力半導(dǎo)體工廠實(shí)現(xiàn)綠色生產(chǎn)轉(zhuǎn)型！表面硬度強(qiáng)化處理，耐磨耐刮擦，保持長(zhǎng)期美觀實(shí)用。金山區(qū)晶圓加熱盤定制

嚴(yán)格質(zhì)量管理體系，ISO認(rèn)證工廠生產(chǎn)，品質(zhì)有保障。靜安區(qū)刻蝕晶圓加熱盤定制

國(guó)瑞熱控依托 10 余年半導(dǎo)體加熱盤研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，提供全流程定制化研發(fā)服務(wù)，滿足客戶特殊工藝需求。服務(wù)流程涵蓋需求分析、方案設(shè)計(jì)、原型制作、性能測(cè)試、批量生產(chǎn)五大環(huán)節(jié)，可根據(jù)客戶提供的工藝參數(shù)（溫度范圍、控溫精度、尺寸規(guī)格、環(huán)境要求等），定制特殊材質(zhì)（如高純石墨、氮化硅陶瓷）、特殊結(jié)構(gòu)（如多腔體集成、異形加熱面）的加熱盤。配備專業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì)（含材料學(xué)、熱力學(xué)、機(jī)械設(shè)計(jì)工程師），采用 ANSYS 溫度場(chǎng)仿真軟件優(yōu)化設(shè)計(jì)方案，原型樣品交付周期**短 10 個(gè)工作日，且提供 3 次**方案迭代。已為國(guó)內(nèi)多家半導(dǎo)體設(shè)備廠商定制**加熱盤，如為某企業(yè)開發(fā)的真空腔體集成加熱盤，實(shí)現(xiàn)加熱與勻氣功能一體化，滿足其特殊制程的空間限制需求。靜安區(qū)刻蝕晶圓加熱盤定制

無(wú)錫市國(guó)瑞熱控科技有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才，集企業(yè)奇思，創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡，一群有夢(mèng)想有朝氣的團(tuán)隊(duì)不斷在前進(jìn)的道路上開創(chuàng)新天地，繪畫新藍(lán)圖，在江蘇省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽(yù)，信奉著“爭(zhēng)取每一個(gè)客戶不容易，失去每一個(gè)用戶很簡(jiǎn)單”的理念，市場(chǎng)是企業(yè)的方向，質(zhì)量是企業(yè)的生命，在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下，全體上下，團(tuán)結(jié)一致，共同進(jìn)退，**協(xié)力把各方面工作做得更好，努力開創(chuàng)工作的新局面，公司的新高度，未來(lái)無(wú)錫市國(guó)瑞熱控科技供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來(lái)，即使現(xiàn)在有一點(diǎn)小小的成績(jī)，也不足以驕傲，過去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗(yàn)，才能繼續(xù)上路，讓我們一起點(diǎn)燃新的希望，放飛新的夢(mèng)想！