面向柔性半導(dǎo)體基板（如聚酰亞胺基板）加工需求，國(guó)瑞熱控**加熱盤(pán)以柔性貼合設(shè)計(jì)適配彎曲基板！采用薄型不銹鋼加熱片（厚度0.2mm）與硅膠導(dǎo)熱層復(fù)合結(jié)構(gòu)，可隨柔性基板彎曲（彎曲半徑**小5mm）而無(wú)結(jié)構(gòu)損壞，加熱面溫度均勻性達(dá)±1.5℃，溫度調(diào)節(jié)范圍50℃-250℃，適配柔性基板鍍膜、光刻膠烘烤等工藝！配備真空吸附槽道，可牢固固定柔性基板，避免加熱過(guò)程中褶皺導(dǎo)致的工藝缺陷！與維信諾、柔宇科技等柔性顯示廠商合作，支持柔性O(shè)LED驅(qū)動(dòng)芯片的制程加工，為柔性電子設(shè)備的輕量化、可彎曲特性提供制程保障！多重安全保護(hù)機(jī)制，過(guò)溫過(guò)載自動(dòng)防護(hù)，讓您使用更安心放心。徐匯區(qū)晶圓加熱盤(pán)

面向半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室研發(fā)場(chǎng)景，國(guó)瑞熱控小型加熱盤(pán)以高精度與靈活性成為科研得力助手！產(chǎn)品尺寸可定制至10cm×10cm，適配小規(guī)格晶圓與實(shí)驗(yàn)樣本的加熱需求，溫度調(diào)節(jié)范圍覆蓋室溫至500℃，**小調(diào)節(jié)精度達(dá)1℃！采用陶瓷加熱元件與鉑電阻傳感器組合，控溫穩(wěn)定性達(dá)±0.5℃，滿足材料研發(fā)中對(duì)溫度參數(shù)的精細(xì)控制！設(shè)備支持USB數(shù)據(jù)導(dǎo)出功能，可實(shí)時(shí)記錄溫度變化曲線，便于實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)追溯與分析！整體采用便攜式設(shè)計(jì)，重量*1.5kg，且具備過(guò)熱保護(hù)功能，當(dāng)溫度超過(guò)設(shè)定閾值時(shí)自動(dòng)斷電，為半導(dǎo)體新材料研發(fā)、工藝參數(shù)優(yōu)化等實(shí)驗(yàn)工作提供可靠溫控工具！連云港高精度均溫加熱盤(pán)精確穩(wěn)定溫度環(huán)境，提升產(chǎn)品良率，助力降本增效。

針對(duì)半導(dǎo)體制造中的高真空工藝需求，國(guó)瑞熱控開(kāi)發(fā)**真空密封組件，確保加熱盤(pán)在真空環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行！組件采用氟橡膠與金屬骨架復(fù)合結(jié)構(gòu)，耐溫范圍覆蓋-50℃至200℃，可長(zhǎng)期在10??Pa真空環(huán)境下使用無(wú)泄漏！密封件與加熱盤(pán)接口精細(xì)匹配，通過(guò)多道密封設(shè)計(jì)提升真空密封性，避免反應(yīng)腔體內(nèi)真空度下降影響工藝質(zhì)量！組件安裝過(guò)程簡(jiǎn)單，無(wú)需特殊工具，且具備良好的耐磨性與抗老化性能，使用壽命超5000次拆裝循環(huán)！適配CVD、PVD等真空工藝用加熱盤(pán)，與國(guó)產(chǎn)真空設(shè)備廠商的反應(yīng)腔體兼容，為半導(dǎo)體制造中的高真空環(huán)境提供可靠密封保障，助力提升工藝穩(wěn)定性與產(chǎn)品良率！

國(guó)瑞熱控8英寸半導(dǎo)體加熱盤(pán)聚焦成熟制程需求，以高性價(jià)比與穩(wěn)定性能成為中低端芯片制造的推薦！采用鋁合金基體經(jīng)陽(yáng)極氧化處理，表面平整度誤差小于0.03mm，加熱面溫度均勻性控制在±2℃以內(nèi)，滿足65nm至90nm制程的溫度要求！內(nèi)部采用螺旋狀鎳鉻加熱絲，熱效率達(dá)85%以上，升溫速率15℃/分鐘，工作溫度上限450℃，適配CVD、PVD等常規(guī)工藝！設(shè)備配備標(biāo)準(zhǔn)真空吸附接口與溫控信號(hào)端口，可直接替換ULVAC、Evatec等國(guó)際品牌同規(guī)格產(chǎn)品，安裝無(wú)需調(diào)整現(xiàn)有生產(chǎn)線布局！通過(guò)1000小時(shí)高溫老化測(cè)試，故障率低于0.1%，為功率器件、傳感器等成熟制程芯片制造提供穩(wěn)定支持！熱場(chǎng)分布均勻，避免局部過(guò)熱，保護(hù)樣品質(zhì)量一致。

面向深紫外光刻工藝對(duì)晶圓預(yù)處理的需求，國(guó)瑞熱控配套加熱盤(pán)以微米級(jí)溫控助力圖形精度提升！采用鋁合金基體與石英玻璃復(fù)合結(jié)構(gòu)，加熱面平面度誤差小于0.01mm，確保晶圓與光刻掩膜緊密貼合！通過(guò)紅外加熱與接觸式導(dǎo)熱協(xié)同技術(shù)，升溫速率達(dá)15℃/分鐘，溫度調(diào)節(jié)范圍60℃-120℃，控溫精度±0.3℃，適配光刻膠軟烘、堅(jiān)膜等預(yù)處理環(huán)節(jié)！表面經(jīng)防反射涂層處理，減少深紫外光反射干擾，且具備快速冷卻功能，從120℃降至室溫*需8分鐘，縮短工藝間隔！與上海微電子光刻機(jī)適配，使光刻圖形線寬偏差控制在5nm以內(nèi)，滿足90nm至28nm制程的精密圖形定義需求！靈活功率配置可選，滿足不同溫度需求，應(yīng)用范圍廣泛多樣。青浦區(qū)加熱盤(pán)非標(biāo)定制

模塊化設(shè)計(jì)理念，維護(hù)更換簡(jiǎn)單快捷，大幅降低運(yùn)維成本。徐匯區(qū)晶圓加熱盤(pán)

針對(duì)半導(dǎo)體濕法工藝中溶液溫度控制需求，國(guó)瑞熱控濕法**加熱盤(pán)采用耐腐蝕不銹鋼材質(zhì)，經(jīng)電解拋光與鈍化處理，可耐受酸堿溶液長(zhǎng)期浸泡無(wú)腐蝕！加熱盤(pán)內(nèi)置密封式加熱元件，與溶液完全隔離，避免漏電風(fēng)險(xiǎn)，同時(shí)具備1500V/1min的電氣強(qiáng)度，使用安全可靠！通過(guò)底部加熱與側(cè)面保溫設(shè)計(jì)，使溶液溫度均勻性控制在±1℃以內(nèi)，溫度調(diào)節(jié)范圍覆蓋25℃至100℃，滿足濕法刻蝕、清洗等工藝的溫度要求！配備高精度溫度傳感器，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)溶液溫度，當(dāng)溫度超出設(shè)定范圍時(shí)自動(dòng)啟動(dòng)加熱或冷卻調(diào)節(jié)，確保化學(xué)反應(yīng)平穩(wěn)進(jìn)行！設(shè)備適配不同規(guī)格的濕法工藝槽體，可根據(jù)槽體尺寸定制加熱盤(pán)形狀與功率，為半導(dǎo)體濕法工藝的穩(wěn)定性與重復(fù)性提供保障！徐匯區(qū)晶圓加熱盤(pán)

無(wú)錫市國(guó)瑞熱控科技有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才，集企業(yè)奇思，創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡，一群有夢(mèng)想有朝氣的團(tuán)隊(duì)不斷在前進(jìn)的道路上開(kāi)創(chuàng)新天地，繪畫(huà)新藍(lán)圖，在江蘇省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽(yù)，信奉著“爭(zhēng)取每一個(gè)客戶不容易，失去每一個(gè)用戶很簡(jiǎn)單”的理念，市場(chǎng)是企業(yè)的方向，質(zhì)量是企業(yè)的生命，在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下，全體上下，團(tuán)結(jié)一致，共同進(jìn)退，**協(xié)力把各方面工作做得更好，努力開(kāi)創(chuàng)工作的新局面，公司的新高度，未來(lái)無(wú)錫市國(guó)瑞熱控科技供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來(lái)，即使現(xiàn)在有一點(diǎn)小小的成績(jī)，也不足以驕傲，過(guò)去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗(yàn)，才能繼續(xù)上路，讓我們一起點(diǎn)燃新的希望，放飛新的夢(mèng)想！