清洗 隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為： - 硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內； - 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢； - EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。美國IONPURE EDI模塊上海純超環保各種型號出售。北京原裝美國IONPURE EDI模塊量大從優

    根據美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統的運行狀態，EDI系統的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1．

  清洗時，EDI系統的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進”和”濃水進”清洗口進入EDI，從“產水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗）

2．

***步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環30分鐘。

      沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒：清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液（約用25% H2O2的濃10kg）循環50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。

第三步：堿洗：水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液，循環50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。

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 美國西門子（IONPURE）EDI模塊混床在運行過程中，其內部的樹脂分為飽和區，交換區，新生區。飽和區的樹脂已經被離子飽和，不再具有從進水中交換離子的功能；交換區的樹脂處于部分飽和狀態，離子交換主要在交換區完成；新生區的樹脂尚未發生離子交換。隨著混床的運行，飽和區和交換區將逐步向上移動，新生區的空間將減少，直到被穿透。新生區的存在是產水的保證，而新生區被穿透的時候，也就意味著混床產水水質將下降，混床需要用藥品再生。

(1) 西門子EDI模塊，進水電導率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導率的增加西門子EDI模塊對弱電解質的去除率減小，出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導致水的解離程度增強，極限電流增大，產生的H+和OH-的數量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產水水質不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當載流離子導電，同時由于大量載流離子移動過程中發生積累和堵塞，甚至發生反擴散，結果使產水水質下降。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環保指導安裝。

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美國IONPURE IP-LXM30ZEDI模塊設備進水指標要求

◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm。

◎電導率：<40μS/cm

◎PH：6.0～9.0。當總硬度低于0.1ppm時，EDI比較好工作的pH范圍為8.0～9.0。

◎溫度： 5～35℃。

◎進水壓力：<4bar（60psi）。

◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm。

◎有機物（TOC）：<0.5ppm。

◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。

◎變價金屬： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。

◎H2S：<0.01ppm。

◎二氧化硅：<0.5ppm。

◎色度：<5APHA。

◎二氧化碳的總量：<10ppm

◎ SDI15min：<1.0。 北京原裝美國IONPURE EDI模塊量大從優

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