氧化鋅可以應用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設備在有關工藝優化和產品質量等重要問題上有重要的參考價值。CPS納米粒度分析儀可以直觀準確的表征病毒顆粒的團聚情況。CPS納米粒度分析儀測定不同處理方式下病毒顆粒的團聚情況的結果，儀器使用轉速為24,000轉/分。可以明顯看到病毒顆粒是否發生團聚現象，儀器分辨率很好。CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間，以及病毒顆粒的團聚情況。地理位置優越，交通十分便利。寧夏激光粒度分析儀

CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間，以及病毒顆粒的團聚情況，峰值清晰可見，為疫苗的研發生產提供全新的解決方案。應用范圍：CPS納米粒度分析儀可測量粒度分布在5nm-75微米之間的超細粉，大量應用于以下領域。化工：聚合物乳膠和乳液，助劑及添加劑(納米碳酸鈣CaCO，重晶石3CaSO)，白炭黑SiO2，金剛石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等，抗沖擊增強顆粒。制藥/生物：納米金和納米銀，病毒和類病毒顆粒，細胞和細胞碎片，蛋白質，脂質體。遼寧激光粒度分析儀報價馳光機電產品銷往國內。

這個關系可以用散點圖顯示，用以觀察樣品粒徑和形狀之間的關系。形狀過濾功能可以根據粒徑或形狀特性放大觀察樣品的特定部分。可以根據數據挖掘，對比分析粒度粒型數據分析，給除對比圖與表格。圖像分析軟件的特征：測量過程中可觀察顆粒；對已存圖片或錄像可重新分析；可根據粒徑或形狀對顆粒分類和過濾；對非球形顆粒可以提供多種形狀參數；可提供纖維測量模塊；驗證工具－較大程度減少樣品預處理對測量結果的影響，顆粒形狀信息是很重要的。

CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業飛速發展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！馳光機電科技以質量求生存，以信譽求發展！

為了實現較佳過程控制，樣品測量時間為5分鐘左右。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內。C-Quand在線XRF分析儀是一款真正的過程分析儀，專為化工廠的惡劣環境而設計。分析儀配置和操作簡單。它配有模擬和串行數據傳輸協議。C-Quand在線 XRF分析儀可以連續測量多達四個流路，每個流都有自己的校準曲線。此外，C-Quand在線XRF分析儀有各種方法來檢查和確保可靠的數據。每小時分析一次內置的固體參考。有了這個內置的自動參考，您將能夠在一年內實現無漂移過程測量。馳光機電科技堅持“顧客至上，合作共贏”。天津高靈敏度納米粒度分析儀

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為了提高粒徑的測量精度，需要較高的圓盤轉速，目前市面上常見的運行速度較高在15000RPM，而國內在1500RPM，無法滿足CPM化學機械拋光的需求。CPS-24000納米粒度儀的最高轉速為24000轉，測試范圍在5nm-75um，每次加樣只需要0.1ml，降低樣液的測試成本，可連續測量多達40個樣品。CPS納米粒度分析儀的使用方法已經列入國標，包括《金屬粉末粒度分布的測量-重力沉淀光透法》、《煤礦粉塵粒度分布測定方法》、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測定-使用光跟蹤盤式離心沉淀儀法》等。寧夏激光粒度分析儀