氧化鋅可以應用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設備在有關工藝優化和產品質量等重要問題上有重要的參考價值。CPS納米粒度分析儀可以直觀準確的表征病毒顆粒的團聚情況。CPS納米粒度分析儀測定不同處理方式下病毒顆粒的團聚情況的結果，儀器使用轉速為24,000轉/分?？梢悦黠@看到病毒顆粒是否發生團聚現象，儀器分辨率很好。CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間，以及病毒顆粒的團聚情況。馳光以誠信為根本，以質量服務求生存。吉林高靈敏度納米粒度分析儀廠家

系統配有沖洗系統，減少了由于系統污染引起的計劃外停機維護時間。樣品預處理系統：正確設計和操作樣品調節系統是分析儀成功運行的關鍵。該系統基于現場經驗針對這種復雜的工藝樣品，專門為低維護操作而設計。低維護的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達到2-3微米，減少了維護量。先進的安全系統，保護分析儀免受高壓影響和防止產品泄漏。簡單校準。標準的引入是一種手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校準，無樣本回收系統。吉林激光粒度粒形分析儀哪家好馳光機電為客戶服務，要做到更好。

各種金屬粉體：如鋁粉、鋅粉、鉬粉、鎢粉、鎂粉、銅粉以及稀土金屬粉、合金粉等。其它粉體：如催化劑、水泥、磨料、醫藥、農藥、食品、涂料、染料、熒光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各種乳濁液等。在現代裝備制造業中的各種潤滑油、液壓油、燃料油、超導體、絕緣材料、無線電技術等行業越來越離不開激光粒度檢測技術，在這些領域，激光粒度儀發揮著越來越大的作用。粒度測量儀可用于建筑材料生產種，建筑業大量使用的水泥，產品的粒度分布是影響質量的非常重要的因素之一。

CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業飛速發展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！馳光機電科技有限公司生產的設備產品質量上乘。

馳光機電小編溫馨提示：為了準確地測量顆粒直徑，EyeTech必須區分在焦點中心的和離開焦點中心的交互作用，因為只有在焦點中心的交互信號才能提供真實的顆粒直徑。這個可以采用脈沖形狀過濾器可以實現。只有衍生信號窄的脈沖才被認為是在中心的交互信號，然后被加到粒徑分布數據中。顆?；ハ嘧饔卯a生光阻：可記錄每個顆粒數據，直接測量真實粒徑，與光學及其他性質無關，粒徑濃度均可檢測，無需校正；儀器的光學測量系統（主機）與樣品分散系統完全單獨的。馳光機電科技以優先，優良的產品，滿足廣大新老用戶的需求。廣東二氧化鈦粒度分析儀報價

馳光機電科技嚴格控制原材料的選取與生產工藝的每個環節，保證產品質量不出問題。吉林高靈敏度納米粒度分析儀廠家

磨料的粒度測量：以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關鍵性的作用，CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米，典型的過大聚集體為1-10微米，并出現在ppm范圍內。顆粒表征的挑戰來自于精確確定納米級顆粒尺寸，同時還識別出相對較少的微米級聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來。吉林高靈敏度納米粒度分析儀廠家