對于追求更高通量和更復雜工藝的研究團隊，多腔室分子束外延（MBE）系統(tǒng)提供了高品質平臺。該系統(tǒng)將樣品制備、分析、生長等多個功能腔室通過超高真空傳送通道連接起來。樣品可以在完全不破壞真空的條件下，在不同腔室之間安全、快速地傳遞。這意味著，研究人員可以在一個腔室中對基板進行清潔和退火處理，然后傳送到生長腔室進行原子級精密的MBE或PLD生長，之后再傳送到分析腔室進行X射線光電子能譜（XPS）、俄歇電子能譜（AES）等原位表面分析，從而實現(xiàn)對材料從制備到表征的全程超凈環(huán)境控制，避免了大氣污染對界面和表面科學研究的致命影響。開展 UHV 濺射相關實驗，此超高真空薄膜沉積系統(tǒng)首要選擇。多靶位外延系統(tǒng)服務

在設備使用過程中，可能會出現(xiàn)多種故障現(xiàn)象。真空度異常是較為常見的問題，若真空度無法達到設備要求的基本壓力范圍，即從5×10?1?至5×10?11mbar，可能是真空泵故障，如真空泵油不足、泵內零件磨損等，導致抽吸能力下降；也可能是真空管道存在泄漏，如管道連接處密封不嚴、管道有破損等，使空氣進入真空系統(tǒng)。溫度控制不穩(wěn)定也時有發(fā)生，當溫度波動較大，無法穩(wěn)定在設定值時，可能是加熱元件損壞，如固體SiC加熱元件出現(xiàn)裂紋或老化，影響加熱效率；或者是溫度傳感器故障，無法準確測量溫度，導致控制系統(tǒng)誤判，不能正確調節(jié)加熱功率。沉積速率異常也是常見故障，若沉積速率過快或過慢，與設定值偏差較大，可能是蒸發(fā)源故障，如蒸發(fā)源溫度不穩(wěn)定，導致材料蒸發(fā)速率異常；或者是分子束流量控制裝置出現(xiàn)問題，無法精確控制分子束的流量，進而影響沉積速率。多靶位外延系統(tǒng)服務樣品支架兼容性強，支持10毫米至4英寸基片。

對于配套設備選型，分析儀器方面，可配備反射高能電子衍射儀（RHEED），它能在薄膜生長過程中實時監(jiān)測薄膜的表面結構和生長情況，為調整沉積參數(shù)提供依據(jù)。通過RHEED的監(jiān)測數(shù)據(jù)，操作人員可以及時發(fā)現(xiàn)薄膜生長中的問題，如生長模式的變化、缺陷的產生等，并采取相應措施進行調整。還可搭配俄歇電子能譜儀（AES），用于分析薄膜的成分和元素分布，幫助研究人員深入了解薄膜的質量和性能。AES能夠精確測量薄膜表面的元素組成和化學狀態(tài)，對于研究新型材料的性能和開發(fā)具有重要意義。

真空度抽不上去或抽速緩慢是常見的故障之一。排查應遵循由外到內、由簡到繁的原則。首先，檢查前級干式機械泵的出口壓力是否正常，以確認其工作能力。其次，檢查所有真空閥門（尤其是粗抽閥和高真空閥）的開啟狀態(tài)是否正確。然后，考慮進行氦質譜檢漏，重點檢查近期動過的法蘭密封面、電極引入端和觀察窗。如果無漏氣，則問題可能源于腔體內部放氣，比如更換靶材或樣品后腔體暴露大氣時間過長，內壁吸附了大量水汽，需要延長烘烤和抽氣時間。也有可能是分子泵性能下降，需要專業(yè)檢修。基板加熱過程中，需監(jiān)控溫度，避免超出設定范圍影響實驗。

校準也是重要的維護內容，定期對設備的各項參數(shù)進行校準，如溫度傳感器、壓力傳感器、激光能量計等，確保測量的準確性。對于一些易損耗的部件，如真空泵油、石英天平的傳感器等，要按照規(guī)定的時間或使用次數(shù)進行更換。維護的頻率可根據(jù)設備的使用情況而定，一般建議每周進行一次外觀清潔和簡單檢查，每月進行一次整體的清潔和關鍵部件的檢查，每季度進行一次深度維護和校準，以保證設備始終處于比較好的運行狀態(tài)，為科研工作提供可靠的支持。工藝腔體底部法蘭可更換，便于端口配置調整。多靶位外延系統(tǒng)服務

激光照射靶材時，開啟靶自動旋轉功能，提升成膜均勻性。多靶位外延系統(tǒng)服務

利用監(jiān)測數(shù)據(jù)進行反饋控制，能夠實現(xiàn)精確的薄膜生長。例如，當 RHEED 監(jiān)測到薄膜生長出現(xiàn)異常時，可以及時調整分子束的流量、基板溫度等參數(shù)，以糾正生長過程；通過 QCM 監(jiān)測到薄膜沉積速率過快或過慢時，可自動調節(jié)蒸發(fā)源的溫度或分子束的通量，使沉積速率保持在設定的范圍內。通過這種實時監(jiān)測和反饋控制機制，能夠在薄膜生長過程中及時發(fā)現(xiàn)問題并進行調整，確保薄膜的生長質量和性能符合預期，為制備高質量的薄膜材料提供了有力保障。多靶位外延系統(tǒng)服務

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