在設備初次安裝與調試階段,必須由經過培訓的專業工程師完成。這包括設備的準確定位、真空泵組的連接、冷卻水系統的接通以及電氣系統的檢查。調試過程涉及系統極限真空的測試、漏率檢測以及各沉積源性能的校準,確保設備達到出廠標準,這一過程是未來所有高質量工作的基石。日常操作始于規范的樣品裝載。對于平面基底,需使用適配工具夾持,避免用手直接接觸功能面。對于粉末樣品,需將其均勻裝入振動碗,注意不超過最大容量標志。裝載完成后,需確認腔室密封圈潔凈無損,然后按照標準操作規程關閉腔門,啟動抽真空程序。系統支持從剛性基片到柔性卷對卷材料的多樣品處理。真空涂覆系統配置 科睿設備:深耕科研儀器領域,賦能多學科創新突破。...
科睿設備有限公司所推出的納米顆粒沉積系統,其主要優勢在于實現了在超高真空環境下,將超純、非團聚的納米顆粒直接沉積到最大直徑50毫米的各類基底上。這一技術突解決了傳統納米材料制備中常見的顆粒團聚、污染等問題,為高質量納米結構制備奠定了堅實基礎。系統采用的特高壓設計,能夠將腔體內的本底真空度維持在極高水平,有效避免了水汽、氧氣等殘余氣體對沉積過程的干擾,確保了納米顆粒的化學純度和結構完整性,這對于對材料性能極為敏感的高科技研究至關重要。 涂層均勻性不佳時,可通過調整基板旋轉速率或優化粒子束流聚焦解決。納米團簇沉積系統控制 光子學領域應用:精細沉積賦能高性能光子器件研發。 ...
在粉末涂層領域,與流化床化學氣相沉積相比,我們的PCS系統采用PVD技術,其過程溫度通常更低,適用于對溫度敏感的粉末材料。PVD涂層是無定形或納米晶結構,更為致密,且不存在CVD前驅體可能帶來的雜質摻入問題,但CVD在復雜三維結構內部的覆蓋均勻性方面可能更具優勢。與簡單的臺式濺射儀或熱蒸發儀相比,我們的系統在真空等級、過程控制的精確度、功能的集成度以及工藝的可重復性方面具有壓倒性優勢。簡單的設備可能適用于要求不高的金屬涂層,但對于前沿的科研工作,我們系統提供的超高真空環境、原位監測和高級控制功能是獲得可靠、可發表數據的關鍵。真空抽速緩慢應首先檢查腔門密封圈及閥門狀態。物理的氣相沉積系統銷售 ...
與傳統的濕化學法相比,我們的PVD技術明顯的優勢在于其無溶劑、無化學廢物的特性,消除了后續處理的環境負擔。PVD制備的涂層純度極高,成分精確可控,且與基底的結合力通常更強。而濕化學法雖然在設備投入上可能較低,但在可控性、重復性和環保方面存在固有短板。 相較于其他類型的PVD系統,我們的設備集成了獨特的納米顆粒沉積功能。傳統的濺射、蒸發主要專注于連續薄膜的制備,而我們的系統通過終止氣體冷凝技術,能夠單獨地或與薄膜技術相結合地產生納米顆粒,這在功能材料的構建上提供了更高的維度和靈活性。 所有實驗過程和數據都應通過軟件自動記錄并妥善保存。納米涂覆系統銷售在設備初次安裝與調試階段,必須由經過...
超高真空PVD系統:超純非團聚納米顆粒沉積的利器 科睿設備有限公司推出的超高真空(UHV)PVD系統,以“超純非團聚納米顆粒直接沉積”為主要優勢,徹底革新了納米材料制備的工藝邏輯。該系統借助先進的真空技術,將真空度控制在極高水平,有效避免了空氣中雜質對納米顆粒的污染,確保沉積過程中納米顆粒的超純特性,同時通過優化的沉積機制,防止顆粒團聚,保證每一顆納米顆粒都能以單獨、均勻的狀態附著于基材表面。更值得關注的是,系統可兼容直徑達50毫米的各類基材,無論是剛性的金屬、陶瓷基板,還是柔性的聚合物材料,都能實現精細沉積,極大拓展了應用場景。對于共享研究實驗室或教學實驗室而言,這一特性尤為重要—...
沉積結束后,不能立即暴露大氣。系統必須按照預設程序,在真空或惰性氣體環境下進行充分的冷卻,以防止高溫樣品氧化或薄膜因熱應力而破裂。待樣品溫度降至安全范圍后,方可執行充氣破空操作,取出樣品。樣品的后續處理與分析需要謹慎。沉積后的樣品,特別是納米結構,可能對空氣敏感,需根據材料特性決定是否需要在手套箱中轉移。取出的樣品應做好標記,記錄詳細的工藝參數,以便與后續的表征結果(如SEM,TEM,XPS,XRD等)進行關聯分析。三頭納米顆粒源結合終止氣體冷凝技術,生成超純非團聚顆粒。納米顆粒沉積系統售后 超高真空PVD系統:超純非團聚納米顆粒沉積的利器 科睿設備有限公司推出的超高真空(UHV)PV...
對于能源存儲與轉化應用,該系統在鋰離子電池、鈉離子電池、超級電容器等前沿材料的研發中發揮著關鍵作用。例如,可以在硅基負極材料或硫正極材料表面精確沉積一層超薄導電金屬或金屬氧化物納米涂層,這能有效提升電極材料的導電性、抑制體積膨脹、穩定固體電解質界面膜,從而大幅提升電池的循環壽命和倍率性能。 除此之外,在光子學與光學器件領域,系統能夠制備用于表面增強拉曼散射的貴金屬納米結構、光子晶體以及各種超構表面。通過控制納米顆粒的尺寸、間距和薄膜的厚度,可以精確調控其對光的吸收、散射和透射特性,為新型光學傳感器、顯示技術和隱身材料的研究提供理想的材料平臺。 原位等離子體清洗功能能有效增強涂層與基底...
超高真空PVD系統:超純非團聚納米顆粒沉積的利器 科睿設備有限公司推出的超高真空(UHV)PVD系統,以“超純非團聚納米顆粒直接沉積”為主要優勢,徹底革新了納米材料制備的工藝邏輯。該系統借助先進的真空技術,將真空度控制在極高水平,有效避免了空氣中雜質對納米顆粒的污染,確保沉積過程中納米顆粒的超純特性,同時通過優化的沉積機制,防止顆粒團聚,保證每一顆納米顆粒都能以單獨、均勻的狀態附著于基材表面。更值得關注的是,系統可兼容直徑達50毫米的各類基材,無論是剛性的金屬、陶瓷基板,還是柔性的聚合物材料,都能實現精細沉積,極大拓展了應用場景。對于共享研究實驗室或教學實驗室而言,這一特性尤為重要—...
渦輪分子泵與干式前級泵的組合泵抽系統,是現代超高真空系統的黃金標準。它能夠實現無油污染的潔凈真空環境,避免了油擴散泵可能帶來的烴類污染風險。干式泵的使用也減少了對維護的需求和對環境的影響,符合現代實驗室的環保與自動化要求。系統的可定制選項遠不止于此。根據用戶的研究方向,我們可以提供不同材質的腔室內襯、針對特定腐蝕性材料優化的沉積源、更高溫度的加熱器、集成式低溫恒溫器以及用于連接其他超高真空分析設備的對接法蘭等,真正實現“量體裁衣”,滿足用戶的獨特研究構想。分子泵過載報警需檢查前級真空度與軸承狀態。納米團簇沉積系統解決方案在電源要求方面,設備需接入穩定的三相交流電(具體電壓和頻率需根據設備規格確...
系統控制與自動化:實現工藝的準確復現。 整個沉積過程由“全自動配方驅動軟件”控制,主要是將各環節的參數(真空度、沉積源功率、氣體流量、QMS篩選參數、基材溫度/旋轉/偏置、沉積時間等)整合為“工藝配方”,實現自動化、可重復運行:參數設定與存儲:用戶可根據實驗需求,設定各環節的具體參數(如納米顆粒尺寸、薄膜厚度、沉積速率等),并將參數組合保存為工藝配方,后續可直接調用,確保實驗的可重復性;實時反饋與調節:控制系統通過傳感器實時采集真空度、沉積速率、基材溫度等數據,若參數偏離設定值,自動調節相關部件(如真空泵功率、沉積源電流、氣體閥門開度),維持工藝穩定;安全聯鎖控制:系統內置多重安全聯...
系統支持原位等離子體清洗功能,這是一個重要的預處理步驟。在沉積前,利用等離子體對粉末基底表面進行轟擊,可以有效去除吸附的污染物和雜質,顯著提高涂層與基底之間的結合力,改善涂層的均勻性與穩定性。此功能集成于同一真空腔內,避免了樣品在多個設備間轉移帶來的污染和氧化風險。 在催化研究領域,我們的沉積系統能夠精確制備高活性、高穩定性的模型催化劑與實用催化劑。研究人員可以利用納米顆粒源,將Pt、Pd、Ru等貴金屬或Ni、Cu等非貴金屬納米顆粒以可控的方式沉積到各種氧化物載體粉末或平面載體上,用于研究尺寸效應、載體效應以及金屬-載體相互作用。其無烴類、無污染的特性確保了催化活性中心的純凈,使得實...
在催化領域,催化劑的活性、選擇性和穩定性直接決定了催化反應的效率和經濟性,而催化劑的表面結構和活性組分分布是影響其性能的主要因素。科睿設備有限公司的納米顆粒沉積系統和超高真空 PVD 系統,為催化材料的準確設計與制備提供了強大的技術手段。通過超高真空環境下的超純非團聚納米顆粒沉積,可將 Pt、Ir?O?、CuO、Ru、Ni、NiO 等高性能催化活性組分,以納米尺度均勻分散在載體表面,形成高比表面積、高活性位點密度的催化涂層。這種制備方式能夠精細控制活性組分的顆粒尺寸、分散度和負載量,有效避免了傳統浸漬法中活性組分團聚、分布不均等問題,明顯提升了催化劑的活性和選擇性。工業研發中,設備可實現小批量...
真空度抽不上去或抽速緩慢是最常見的故障之一。排查應遵循由外到內、由簡到繁的原則。首先檢查腔門是否關緊、密封圈是否完好潔凈。其次,檢查各個真空閥門的開閉狀態是否正確。然后,使用氦質譜檢漏儀對系統進行檢漏,重點關注法蘭連接處、電極引入端等潛在漏點。然后,考慮是否腔室或泵體內部污染導致放氣率過高。 分子泵或渦輪泵運行異常,如過載報警、轉速不穩,可能的原因包括軸承壽命到期、泵體內部進入異物、或前級真空不足導致泵負載過大。需要查閱泵的維護手冊,檢查前級真空壓力,必要時聯系專業人員進行檢修或更換。 提供 1L、2L 等多規格碗容量選擇,適配實驗室與中試規模需求。納米沉積系統使用壽命科睿設備的納米...
燃料電池高性能催化劑制備(日本東北大學):該大學環境學院團隊采用電弧等離子體類型的UHV沉積系統(APD)制備Pt基高熵合金催化劑。系統借助超高真空環境避免雜質污染,以原子級精度構建出4層單晶Pt層與10層Cantor合金的“偽核殼”結構,還通過準確控制實現Cr-Mn-Fe-Co-Ni等多元合金的組分比例。后續在Pt/Cantor合金的(111)晶面上引入三聚氰胺分子后,催化劑的氧還原反應活性提升約2倍,且在0.6-1.0V的潛在循環負載下保持超高穩定性,大幅延長了燃料電池使用壽命,為燃料電池催化劑的高性能化研發提供了技術支撐。該系統廣泛應用于催化、儲能和光子學等前沿研究領域。粉體鍍膜沉積系統...
新南威爾士大學AronMichael團隊利用超高真空電子束蒸發硅系統,攻克了CMOS上集成MEMS時的低熱預算難題。該系統可在≤500℃的低熱預算下,制備出厚度達60μm、表面光滑且低應力的原位磷摻雜硅薄膜,沉積速率達1μm/min,且不會損害CMOS的完整性。團隊還基于這種厚多晶硅膜設計制造了20μm厚的梳狀驅動結構,成功實現了加速度計的功能。該案例為MEMS器件提供了新型低成本厚多晶硅技術,助力汽車、可穿戴設備等領域智能傳感器的低成本集成。工業研發中,設備可實現小批量試產,為規模化生產提供工藝參數參考。無烴納米涂覆系統維修 NL-FLEX多功能沉積系統:全場景基材適配,解鎖多元應用可能 ...