中源綠凈為光學鏡片鍍膜潔凈室定制的環境監測系統，聚焦于微粒與氣體純度的 管控。針對鏡片鍍膜的 10 級潔凈區，部署了超高精度監測終端，可檢測 0.1μm 微粒濃度（采樣流量 100L/min）、鍍膜氣體純度（99.999%~99.9999%，精度 ±0.0001%）、環境溫濕度及氣壓。采用激光誘導擊穿光譜技術（LIBS）檢測氣體純度，響應時間≤1 秒，數據采樣頻率達 10 次 / 秒。通過與鍍膜機聯動控制，當氣體純度不達標時自動切斷氣源，使鏡片鍍膜不良率下降 45%。已在華為光學、舜宇光學等企業應用，滿足 ISO 10110 光學鏡片標準，環境管控達標率維持在 99.9%。中源綠凈為 20 + 骨科植入物生產企業保障生產潔凈度，產品微粒檢測合格率提升！深圳激光環境監測在線監測

中源綠凈為半導體晶圓切割潔凈室開發的環境監測系統，重點強化了微粒與濕度的 管控。應用場景：晶圓切割與劃片潔凈車間。針對 100 級切割區，部署防靜電監測終端，同步采集 0.3μm 微粒濃度（采樣流量 50L/min，數據更新周期 2 秒）、車間濕度（45%~55% RH，精度 ±2%）、切割區溫度（23±1℃）及靜電電壓（量程 - 500~+500V）。采用激光散射式粒子計數器， 小檢測粒徑達 0.1μm，配合濕度動態調節算法，可將濕度波動控制在 ±3% 以內。系統支持與切割設備聯動，當微粒濃度超標時自動暫停作業，使晶圓切割崩邊率下降 45%。已在中芯國際、華虹半導體應用，符合 SEMI F47 電壓標準，環境穩定性達標率 99.93%。深圳0.5um環境監測源頭廠家中源綠凈環境監測服務，使 55 + 診斷試劑廠潔凈監測，靈敏度穩定性提 15%！

中源綠凈在半導體晶圓光刻潔凈室潔凈度監測中，打造了超微顆粒 管控體系。應用場景：半導體晶圓光刻潔凈車間。針對 10 級光刻 區，采用每 1.5 平方米 1 個監測終端的高密度部署，可實時采集 0.1μm、0.3μm、0.5μm 多粒徑微粒濃度，采樣流量達 50L/min，數據更新周期為 1 秒 / 次。系統搭載激光誘導擊穿光譜粒子計數器， 小檢測粒徑達 0.05μm，檢測精度誤差≤±5%。通過與光刻設備聯動，當 0.1μm 微粒濃度超過 35 粒 / 升時自動調節曝光環境，配合微粒溯源算法快速定位污染源，使晶圓光刻缺陷率下降 52%。已在中芯國際、臺積電等企業應用，符合 SEMI F21 潔凈度標準，連續運行數據顯示潔凈度達標率達 99.96%。

中源綠凈為生物安全柜潔凈室開發的環境監測系統，重點強化了氣流與微生物的 監測。應用場景：生物安全柜操作潔凈室。針對 P2 級生物安全實驗室，部署 監測終端，同步采集安全柜出風口風速（0.38±0.02m/s，精度 ±0.01m/s）、下沉氣流速度（0.25~0.3m/s）、浮游菌濃度（每小時采樣 1 次，檢測下限 1CFU/m3）及室內壓差（≥10Pa）。采用熱球式風速儀實現高精度氣流監測，數據采樣頻率 10 次 / 秒，確保捕捉氣流波動。系統具備與安全柜聯動功能，當氣流速度異常時立即聲光報警并自動關閉操作窗口，使微生物泄漏風險下降 70%。已在中科院生物所、協和醫院實驗室應用，符合 GB 50346 實驗室設計規范，環境監測數據合規率 100%。中源綠凈為 45 + 烘焙店做環境監測，面團發酵更穩定，產品口感一致性提 15%！

中源綠凈為生物樣本庫潔凈室定制的環境監測系統，聚焦于低溫環境下的參數穩定性監測。針對 - 80℃超低溫冰箱存放區的 B 級潔凈區，部署了耐低溫監測終端，可在 - 40~50℃環境下穩定運行，監測參數包括空氣潔凈度（0.5μm 微粒濃度）、庫內溫度（波動范圍 ±1℃）、濕度（≤45% RH）及氣壓差。采用鉑電阻溫度傳感器，在低溫環境下測量精度達 ±0.3℃，數據傳輸采用低溫 電纜，確保 - 80℃環境下信號無衰減。系統具備雙路報警機制，溫度異常時 30 秒內觸發聲光 + 短信報警，使樣本保存事故率下降 70%。已在國家基因庫、協和醫院樣本庫應用，符合 ISO 20387 生物樣本庫要求，參數監測準確率 100%。中源綠凈在環境監測方面，為 30 + 企業提供環境監測項目驗收服務，保障項目質量！深圳模塊化環境監測計數器標準操作規程

中源綠凈為 25 + 化肥廠監測土壤，養分失衡問題改善，作物長勢更好！深圳激光環境監測在線監測

中源綠凈針對半導體濕法刻蝕潔凈室的潔凈度監測方案，聚焦于腐蝕性環境下的 監測。應用場景：半導體濕法刻蝕潔凈車間。針對 1000 級刻蝕區，配置防腐蝕監測終端，可耐受 Cl?、HF 等腐蝕性氣體環境，實時監測 0.5μm 微粒濃度（采樣流量 28.3L/min）、蝕刻液飛濺微粒及局部濕度（控制在 40%~50% RH±3%）。采用惰性材料封裝傳感器，檢測精度在腐蝕性環境中仍保持 ±10% 以內。通過與蝕刻槽聯動控制，當微粒濃度超標時自動啟動局部排風，使晶圓刻蝕均勻性不良率下降 45%。已服務于華虹半導體、士蘭微等企業，符合 SEMI S2 安全標準，潔凈度監測準確率 99.92%。深圳激光環境監測在線監測