磷化銦（InP）光子晶圓易產(chǎn)生邊緣散射損耗。中清航科采用等離子體刻蝕輔助裂片技術，切割面垂直度達89.5°±0.2°，側壁粗糙度Ra<20nm，插入損耗降低至0.15dB/cm。中清航科SkyEye系統(tǒng)通過5G實時回傳設備運行數(shù)據(jù)（振動/電流/溫度），AI引擎15分鐘內定位故障根因。遠程AR指導維修，MTTR（平均修復時間）縮短至45分鐘，服務覆蓋全球36國。基于微區(qū)X射線衍射技術，中清航科繪制切割道殘余應力三維分布圖（分辨率10μm），提供量化改進方案。客戶芯片熱循環(huán)壽命提升至5000次（+300%），滿足車規(guī)級AEC-Q104認證。晶圓切割應急服務中清航科24小時響應，備件儲備超2000種。麗水砷化鎵晶圓切割劃片廠

中清航科注重與科研機構的合作創(chuàng)新，與國內多所高校共建半導體切割技術聯(lián)合實驗室。圍繞晶圓切割的前沿技術開展研究，如原子層切割、超高頻激光切割等，已申請發(fā)明專利50余項，其中“一種基于飛秒激光的晶圓超精細切割方法”獲得國家發(fā)明專利金獎，推動行業(yè)技術進步。晶圓切割設備的軟件系統(tǒng)是其智能化的中心，中清航科自主開發(fā)了切割控制軟件，具備友好的人機交互界面與強大的功能。支持多種格式的晶圓版圖文件導入，可自動生成切割路徑，同時提供離線編程功能，可在不影響設備運行的情況下完成新程序的編制與模擬，提高設備利用率。宿遷12英寸半導體晶圓切割刀片中清航科推出切割機租賃服務，降低客戶初期投入成本。

晶圓切割的主要目標之一是從每片晶圓中獲得高產(chǎn)量的、功能完整且無損的芯片。產(chǎn)量是半導體制造中的一個關鍵性能指標，因為它直接影響電子器件生產(chǎn)的成本和效率。更高的產(chǎn)量意味著每個芯片的成本更造能力更大，制造商更能滿足不斷增長的電子器件需求。晶圓切割直接影響到包含這些分離芯片的電子器件的整體性能。切割過程的精度和準確性需要確保每個芯片按照設計規(guī)格分離，尺寸和對準的變化小。這種精度對于在終設備中實現(xiàn)比較好電氣性能、熱管理和機械穩(wěn)定性至關重要。

為滿足半導體行業(yè)的快速交付需求，中清航科建立了高效的設備生產(chǎn)與交付體系。采用柔性化生產(chǎn)模式，標準型號切割設備可實現(xiàn)7天內快速發(fā)貨，定制化設備交付周期控制在30天以內。同時提供門到門安裝調試服務，配備專業(yè)技術團隊全程跟進，確保設備快速投產(chǎn)。在晶圓切割的工藝參數(shù)優(yōu)化方面，中清航科引入實驗設計（DOE）方法。通過多因素正交試驗，系統(tǒng)分析激光功率、切割速度、焦點位置等參數(shù)對切割質量的影響，建立參數(shù)優(yōu)化模型，可在20組實驗內找到比較好工藝組合，較傳統(tǒng)試錯法減少60%的實驗次數(shù)，加速新工藝開發(fā)進程。中清航科切割機節(jié)能模式降低功耗40%，年省電費超15萬元。

為幫助客戶應對半導體行業(yè)的技術人才短缺問題，中清航科推出“設備+培訓”打包服務。購買設備的客戶可獲得技術培訓名額，培訓內容涵蓋設備操作、工藝調試、故障排除等，培訓結束后頒發(fā)認證證書。同時提供在線技術支持平臺，隨時解答客戶在生產(chǎn)中遇到的技術問題。隨著半導體器件向微型化、集成化發(fā)展，晶圓切割的精度要求將持續(xù)提升。中清航科已啟動亞微米級切割技術的產(chǎn)業(yè)化項目，計劃通過引入更高精度的運動控制系統(tǒng)與更短波長的激光源，實現(xiàn)500nm以內的切割精度，為量子芯片、生物傳感器等前沿領域的發(fā)展提供關鍵制造設備支持。中清航科切割工藝白皮書下載量超10萬次，成行業(yè)參考標準。常州晶圓切割劃片

中清航科切割實驗室開放合作，已助力30家企業(yè)工藝升級。麗水砷化鎵晶圓切割劃片廠

隨著Chiplet技術的興起，晶圓切割需要更高的位置精度以保證后續(xù)的異構集成。中清航科開發(fā)的納米級定位切割系統(tǒng)，采用氣浮導軌與光柵尺閉環(huán)控制，定位精度達到±0.1μm，配合雙頻激光干涉儀進行實時校準，確保切割道位置與設計圖紙的偏差不超過0.5μm，為Chiplet的高精度互聯(lián)奠定基礎。中清航科深諳半導體設備的定制化需求，可為客戶提供從工藝驗證到設備交付的全流程服務。其技術團隊會深入了解客戶的晶圓規(guī)格、材料特性與產(chǎn)能要求，定制專屬切割方案，如針對特殊異形Die的切割路徑優(yōu)化、大尺寸晶圓的分片切割策略等，已成功為多家頭部半導體企業(yè)完成定制化項目交付。麗水砷化鎵晶圓切割劃片廠