UV膜殘膠導(dǎo)致芯片貼裝失效。中清航科研發(fā)酶解清洗液，在50℃下選擇性分解膠層分子鏈，30秒清理99.9%殘膠且不損傷鋁焊盤，替代高污染溶劑清洗。針對3DNAND多層堆疊結(jié)構(gòu)，中清航科采用紅外視覺穿透定位+自適應(yīng)焦距激光，實現(xiàn)128層晶圓的同步切割。垂直對齊精度±1.2μm，層間偏移誤差<0.3μm。中清航科綠色方案整合電絮凝+反滲透技術(shù)，將切割廢水中的硅粉、金屬離子分離回收，凈化水重復(fù)利用率達98%，符合半導(dǎo)體廠零液體排放（ZLD）標準。中清航科切割工藝白皮書下載量超10萬次，成行業(yè)參考標準。半導(dǎo)體晶圓切割劃片

晶圓切割/裂片是芯片制造過程中的重要工序，屬于先進封裝(advancedpackaging)的后端工藝(back-end)之一，該工序可以將晶圓分割成單個芯片，用于隨后的芯片鍵合。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，對高性能和更小型電子器件的需求增加，晶圓切割/裂片精度及效率控制日益不可或缺。晶圓切割的重要性在于它能夠在不損壞嵌入其中的精細結(jié)構(gòu)和電路的情況下分離單個芯片，成功與否取決于分離出來的芯片的質(zhì)量和產(chǎn)量，以及整個過程的效率。為了實現(xiàn)這些目標，目前已經(jīng)開發(fā)了多種切割技術(shù)，每種技術(shù)都有其獨特的優(yōu)點和缺點。南京晶圓切割測試中清航科切割液回收系統(tǒng)降低耗材成本35%，符合綠色制造。

中清航科在切割頭集成聲波傳感器，通過頻譜分析實時識別崩邊、裂紋等缺陷（靈敏度1μm）。異常事件觸發(fā)自動停機，避免批量損失，每年減少廢片成本$2.5M。為提升CIS有效感光面積，中清航科將切割道壓縮至8μm：激光隱形切割（SD）配合智能擴膜系統(tǒng)，崩邊<3μm，使1/1.28英寸傳感器邊框縮減40%，暗電流降低至0.12nA/cm2。中清航科金剛石刀片再生技術(shù)：通過等離子體刻蝕去除表層磨損層，重新鍍覆納米金剛石顆粒。再生刀片壽命達新品90%，成本降低65%，已服務(wù)全球1200家客戶。

隨著芯片輕薄化趨勢，中清航科DBG（先切割后研磨）與SDBG（半切割后研磨）設(shè)備采用漸進式壓力控制技術(shù)，切割階段只切入晶圓1/3厚度，經(jīng)背面研磨后自動分離。該方案將100μm以下晶圓碎片率降至0.01%，已應(yīng)用于5G射頻模塊量產(chǎn)線。冷卻液純度直接影響切割良率。中清航科納米級過濾系統(tǒng)可去除99.99%的0.1μm顆粒，配合自主研發(fā)的抗靜電添加劑，減少硅屑附著造成的短路風險。智能溫控模塊維持液體粘度穩(wěn)定，延長刀片壽命200小時以上呢。中清航科提供切割工藝認證服務(wù)，助客戶通過車規(guī)級標準。

隨著半導(dǎo)體市場需求的快速變化，產(chǎn)品迭代周期不斷縮短，這對晶圓切割的快速響應(yīng)能力提出更高要求。中清航科建立了快速工藝開發(fā)團隊，承諾在收到客戶新樣品后72小時內(nèi)完成切割工藝驗證，并提供工藝報告與樣品測試數(shù)據(jù)，幫助客戶加速新產(chǎn)品研發(fā)進程，搶占市場先機。晶圓切割設(shè)備的操作安全性至關(guān)重要，中清航科嚴格遵循SEMIS2安全標準，在設(shè)備設(shè)計中融入多重安全保護機制。包括激光安全聯(lián)鎖、急停按鈕、防護門檢測、過載保護等，同時配備安全警示系統(tǒng)，實時顯示設(shè)備運行狀態(tài)與潛在風險，確保操作人員的人身安全與設(shè)備的安全運行。12英寸晶圓切割中清航科解決方案突破產(chǎn)能瓶頸，良率99.3%。宿遷碳化硅陶瓷晶圓切割企業(yè)

中清航科等離子切割技術(shù)處理氮化鎵晶圓，熱影響區(qū)減少60%。半導(dǎo)體晶圓切割劃片

在晶圓切割的產(chǎn)能規(guī)劃方面，中清航科為客戶提供專業(yè)的產(chǎn)能評估服務(wù)。通過產(chǎn)能模擬軟件，根據(jù)客戶的晶圓規(guī)格、日產(chǎn)量需求、設(shè)備利用率等參數(shù)，精確計算所需設(shè)備數(shù)量與配置方案，并提供投資回報分析，幫助客戶優(yōu)化設(shè)備采購決策，避免產(chǎn)能過剩或不足的問題。針對晶圓切割過程中可能出現(xiàn)的異常情況，中清航科開發(fā)了智能應(yīng)急處理系統(tǒng)。設(shè)備可自動識別切割偏差過大、晶圓破裂等異常狀態(tài)，并根據(jù)預(yù)設(shè)方案采取緊急停機、廢料處理等措施，同時自動保存異常發(fā)生前的工藝數(shù)據(jù)，為后續(xù)問題分析提供依據(jù)，比較大限度減少損失。半導(dǎo)體晶圓切割劃片