PLM系列相位差測試儀在AR/VR光學模組的量產檢測中具有獨特優勢。該系列整合了相位差、光軸、透過率等多項測試功能,實現一站式測量。系統采用模塊化設計,可根據不同產品需求靈活配置測試項目。在Pancake模組的檢測中,PLM測試儀能在90秒內完成12項關鍵參數的測量。當前的機器視覺引導技術實現了測試流程的全自動化,日檢測量可達800-1000個模組。此外,系統內置的SPC統計分析模塊可實時監控工藝波動,為質量管控提供決策依據。該系列儀器已廣泛應用于主流VR設備制造商的生產線。搭載多波段光譜儀,檢測項目涵蓋偏光片各光學性能。配向角相位差測試儀價格
Rth相位差測試儀專門用于測量光學材料在厚度方向的相位延遲特性,可精確表征材料的雙折射率分布。該系統基于傾斜入射橢偏技術,通過改變入射角度,獲取樣品在不同深度下的相位差數據。在聚合物薄膜檢測中,Rth測試儀能夠評估拉伸工藝導致的分子取向差異,測量范圍可達±300nm。儀器采用高精度角度旋轉平臺,角度分辨率達0.001°,確保測試數據的準確性。在OLED顯示技術中,Rth測試儀可分析封裝層的應力雙折射現象,為工藝優化提供依據。當前的自動樣品臺設計支持大面積掃描,可繪制樣品的Rth值分布圖,直觀顯示材料均勻性
無錫穆勒矩陣相位差測試儀供應商通過相位差測試儀可分析偏光片的相位延遲,優化生產工藝。

橢圓度測試是評估AR/VR光學系統偏振特性的重要手段。相位差測量儀采用旋轉分析器橢偏術,可以精確測定光學元件引起的偏振態橢圓率變化。這種測試對評估光波導器件的偏振保持性能尤為重要,測量動態范圍達0.001-0.999。系統采用同步檢測技術,抗干擾能力強,適合產線環境使用。在多層抗反射膜的檢測中,橢圓度測試能發現各向異性導致的偏振失真。當前的多視場測量方案可一次性獲取中心與邊緣區域的橢圓度分布。此外,該數據還可用于建立光學系統的偏振像差模型,指導成像質量優化。
相位差測量儀在光學相位延遲測量中具有關鍵作用,特別是在波片和液晶材料的表征方面。通過精確測量o光和e光之間的相位差,可以評估λ/4波片、λ/2波片等光學元件的性能指標。現代相位差測量儀采用干涉法或偏振分析法,測量精度可達0.01λ,為光學系統的偏振控制提供可靠數據。在液晶顯示技術中,這種測量能準確反映液晶盒的相位延遲特性,直接影響顯示器的視角和色彩表現。科研人員還利用該技術研究新型光學材料的雙折射特性,為光子器件開發奠定基礎。蘇州千宇光學自主研發的相位差測量儀可以測試0-20000nm的相位差范圍,實現較低相位差測試,可解析Re為1納米以內基膜的殘留相位差,高相位差測試,可對離型膜、保護膜等高相位差樣品進行檢測,搭載多波段光譜儀,檢測項目涵蓋偏光片各學性能,高精密高速測量。并且還可以支持定制可追加椎光鏡頭測試曲面樣品。相位差測試儀可用于偏光片老化測試,評估長期穩定性。

對于VR設備中***采用的短焦pancake透鏡系統,相位差測量儀的作用至關重要。此類系統由多片精密透鏡粘合而成,任何一片透鏡的面形誤差、材料內部應力或膠合層的微小厚度偏差都會經過復雜光路的放大,**終導致嚴重的像散、場曲和畸變,引發用戶眩暈感。該儀器能夠對單片透鏡乃至整個鏡組的光學總波前進行精確測量,清晰量化每一處缺陷對系統調制傳遞函數(MTF)的影響,指導完成精密的裝調與像差補償,確保合成后的光學系統達到極高的分辨率與視覺保真度要求。通過測試光學膜的相位差軸角度,可評估其與顯示面板的貼合兼容性,減少彩虹紋現象。廣東三次元折射率相位差測試儀批發
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三次元折射率測量技術為AR/VR光學材料開發提供了關鍵數據支持。相位差測量儀結合共聚焦顯微系統,可以實現材料內部折射率的三維測繪。這種測試對光波導器件的均勻性評估尤為重要,空間分辨率達1μm。系統采用多波長掃描,可同時獲取折射率的色散特性。在納米壓印光學膜的檢測中,該技術能發現微結構復制導致的折射率分布不均。測量速度達每秒1000個數據點,適合大面積掃描。此外,該方法還可用于研究材料固化過程中的折射率變化規律,優化生產工藝參數。
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千宇光學專注于偏振光學應用、光學解析、光電探測器和光學檢測儀器的研發與制造。主要事業涵蓋光電材料、光學顯示、半導體、薄膜橡塑、印刷涂料等行業。 產品覆蓋LCD、OLED、VR、AR等上中下游各段光學測試需求,并于國內率先研發相位差測試儀打破國外設備壟斷,目前已廣泛應用于全國光學頭部品牌及其制造商
千宇光學研發中心由光學博士團隊組成,掌握自主的光學檢測技術, 測試結果可溯源至國家計量標準。與國家計量院、華中科技大學、東南大學、同濟大學等高校建立產學研深度合作。千宇以提供高價值產品及服務為發展原動力, 通過持續輸出高速度、高精度、高穩定的光學檢測技術,優化產品品質,成為精密光學產業有價值的合作伙伴。