相位差測量技術正在推動新型光學材料的研究進展。對于超構表面、光子晶體等人工微結構材料,其異常的相位調控能力需要納米級精度的測量手段來驗證。蘇州千宇光學自主研發的相位差測量儀,正面位相差讀數分辨達到0.001nm,厚度方向標準位相差讀數分辨率達到0.001nm,RTH厚度位相差精度達到1nm。科研人員將相位差測量儀與近場光學顯微鏡聯用,實現了對亞波長尺度下局域相位分布的精確測繪。這種技術特別適用于驗證超構透鏡的相位分布設計,為開發輕薄型平面光學元件提供了重要的實驗支撐。在拓撲光子學研究中,相位差測量更是揭示光學拓撲態的關鍵表征手段。
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貼合角測試儀在AR/VR光學模組的組裝工藝控制中不可或缺。相位差測量技術可以納米級精度檢測光學元件貼合界面的角度偏差。系統采用白光干涉原理,測量范圍±5度,分辨率達0.001度。在Pancake模組的檢測中,該測試能發現透鏡堆疊時的微小角度誤差。當前的自動對焦技術確保測量點精確定位,重復性±0.002度。此外,系統還能評估不同膠水類型對貼合角度的影響,為工藝選擇提供依據。這種高精度測試方法明顯提升了超薄光學模組的組裝良率,降低生產成本。蘇州千宇光學自主研發的相位差測量儀可以測試0-20000nm的相位差范圍,實現較低相位差測試,可解析Re為1納米以內基膜的殘留相位差,高相位差測試,可對離型膜、保護膜等高相位差樣品進行檢測,搭載多波段光譜儀,檢測項目涵蓋偏光片各學性能,高精密高速測量。并且還可以支持定制可追加椎光鏡頭測試曲面樣品慢軸相位差測試儀報價在VR透鏡生產中,該儀器能檢測雙折射效應,避免畫面畸變和色彩偏差。

直交透過率和平行透過率測試是偏光元件質量評估的關鍵指標。相位差測量儀采用可調激光光源,可以精確測量偏光膜在正交和平行配置下的透過率比值。這種測試對VR設備中使用的圓偏光膜尤為重要,消光比測量范圍達10000:1。系統配備溫控樣品臺,可模擬不同環境條件下的性能變化。在反射式偏光膜的檢測中,該測試能評估多次反射后的偏振保持能力。當前的自動對準技術確保測量時光軸對齊精度達0.01度。該方法還可用于研究新型納米線柵偏光膜的視角特性,為廣視角設計提供數據支持。
在光學制造與檢測過程中,相位差測量儀可用于評估透鏡、棱鏡等光學元件的面形精度和材料一致性。通過分析透射或反射波前的相位分布,能夠快速識別像差來源,提高成像系統的分辨率與對比度。此外,在鍍膜工藝中,該儀器還可實時監控膜層厚度及其均勻性,確保增透膜、分光膜等光學薄膜達到設計指標,有效提升產品良率。光學薄膜的制備與檢測離不開相位差測量儀的深度參與。薄膜的厚度及其均勻性直接影響其光學特性,如增透、分光、濾光等性能。該儀器能夠在鍍膜過程中或完成后,非破壞性地對膜層進行在位或離線檢測,通過分析反射或透射光波的相位信息,反演出薄膜的精確厚度分布和折射率均勻性,從而實現工藝參數的精細調控與產品質量的嚴格把關,確保每一片濾光片、反射鏡都能達到預期的設計指標。用于測量復合光學膜的多層相位差軸向,優化疊層設計以提高光學性能。

三次元折射率測量技術為AR/VR光學材料開發提供了關鍵數據支持。相位差測量儀結合共聚焦顯微系統,可以實現材料內部折射率的三維測繪。這種測試對光波導器件的均勻性評估尤為重要,空間分辨率達1μm。系統采用多波長掃描,可同時獲取折射率的色散特性。在納米壓印光學膜的檢測中,該技術能發現微結構復制導致的折射率分布不均。測量速度達每秒1000個數據點,適合大面積掃描。此外,該方法還可用于研究材料固化過程中的折射率變化規律,優化生產工藝參數。
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相位差測試儀廣泛應用于通信、音頻和電力電子領域。江西斯托克斯相位差測試儀研發
位差測量儀作為光學精密測量領域的設備,在光學元件的研發、制造與質量檢測中發揮著不可替代的作用。它通過高精度的干涉或波前傳感技術,能夠非接觸地測量光波經過光學材料或系統后產生的相位分布變化,從而精確評估元件面形精度、材料均勻性、內部應力及鍍膜質量。無論是透鏡、棱鏡、反射鏡還是復雜的光學組裝體,其波前畸變和像差均可被快速捕捉并量化,為工藝改進和質量控制提供客觀、可靠的數據依據,提升光學產品的性能一致性與良品率。江西斯托克斯相位差測試儀研發
千宇光學專注于偏振光學應用、光學解析、光電探測器和光學檢測儀器的研發與制造。主要事業涵蓋光電材料、光學顯示、半導體、薄膜橡塑、印刷涂料等行業。 產品覆蓋LCD、OLED、VR、AR等上中下游各段光學測試需求,并于國內率先研發相位差測試儀打破國外設備壟斷,目前已廣泛應用于全國光學頭部品牌及其制造商
千宇光學研發中心由光學博士團隊組成,掌握自主的光學檢測技術, 測試結果可溯源至國家計量標準。與國家計量院、華中科技大學、東南大學、同濟大學等高校建立產學研深度合作。千宇以提供高價值產品及服務為發展原動力, 通過持續輸出高速度、高精度、高穩定的光學檢測技術,優化產品品質,成為精密光學產業有價值的合作伙伴。