偏光度測量是評估AR/VR光學系統成像質量的重要指標。相位差測量儀采用穆勒矩陣橢偏技術，可以分析光學模組的偏振特性。這種測試對Pancake光學系統中的反射偏光膜尤為重要，測量范圍覆蓋380-780nm可見光譜。系統通過32點法測量，確保數據準確可靠。在光波導器件的檢測中，偏光度測量能夠量化評估圖像傳輸過程中的偏振態變化。當前的實時測量技術可在產線上實現100%全檢，測量速度達每秒3個數據點。此外，該數據還可用于光學模擬軟件的參數校正，提高設計準確性相位差測試儀配合專業軟件，可實現數據存儲和深度分析。蘇州穆勒矩陣相位差測試儀價格

光學膜配向角測試儀專門用于評估配向膜對液晶分子的取向控制能力。通過測量配向膜引起的偏振光相位變化，可以精確計算其配向特性。這種測試對各類液晶顯示器的開發都至關重要，因為配向質量直接影響顯示均勻性和響應速度。當前的多區域同步測量技術可以一次性評估大面積基板的配向均勻性。在柔性顯示技術中，配向角測試需要特別考慮彎曲狀態下的測量方法。此外，該方法還可用于研究不同配向工藝（如光配向、摩擦配向）的效果比較，為工藝選擇提供科學依據東營偏光片相位差測試儀研發提供透過率，偏光度，貼合角，Re， Rth等測試項目。

平面方向的光學特性測量對AR/VR顯示均勻性控制至關重要。相位差測量儀通過二維掃描技術，可以獲取光學模組在整個有效區域的性能分布。這種測試對評估Pancake系統的視場均勻性尤為關鍵，測量點密度可達100×100。系統配備高精度位移平臺，定位精度±1μm。在衍射光波導的檢測中，平面測量能發現耦出區域的光學特性波動。當前的實時數據處理技術可在測量同時生成均勻性云圖，直觀顯示問題區域。此外，該數據還可用于建立光學補償算法，提升圖像顯示質量。

相位差測量儀同樣在柔性OLED（柔性OLED）的質量控制中扮演著不可或缺的角色。柔性顯示器的制造需在柔性基板（如PI聚酰亞胺）上沉積多層薄膜，整個結構在后續的多次彎折過程中對膜層的應力、附著力和厚度均勻性提出了極端苛刻的要求。該設備不僅能精確測量各層厚度，還能分析其在彎折試驗前后的厚度變化與應力分布情況，為評估柔性器件的可靠性與耐久性、優化阻隔層和緩沖層結構設計提供至關重要的量化依據，保障了柔性屏幕的長期使用穩定性。通過實時監測相位差，優化偏光片鍍膜工藝參數。

三次元折射率測量技術為AR/VR光學材料開發提供了關鍵數據支持。相位差測量儀結合共聚焦顯微系統，可以實現材料內部折射率的三維測繪。這種測試對光波導器件的均勻性評估尤為重要，空間分辨率達1μm。系統采用多波長掃描，可同時獲取折射率的色散特性。在納米壓印光學膜的檢測中，該技術能發現微結構復制導致的折射率分布不均。測量速度達每秒1000個數據點，適合大面積掃描。此外，該方法還可用于研究材料固化過程中的折射率變化規律，優化生產工藝參數。
通過高精度軸向角度測量，為光學膜的涂布、拉伸工藝提供關鍵數據支持。蘇州穆勒矩陣相位差測試儀價格

搭載多波段光譜儀，檢測項目涵蓋偏光片各光學性能。蘇州穆勒矩陣相位差測試儀價格

在光學制造與檢測過程中，相位差測量儀可用于評估透鏡、棱鏡等光學元件的面形精度和材料一致性。通過分析透射或反射波前的相位分布，能夠快速識別像差來源，提高成像系統的分辨率與對比度。此外，在鍍膜工藝中，該儀器還可實時監控膜層厚度及其均勻性，確保增透膜、分光膜等光學薄膜達到設計指標，有效提升產品良率。光學薄膜的制備與檢測離不開相位差測量儀的深度參與。薄膜的厚度及其均勻性直接影響其光學特性，如增透、分光、濾光等性能。該儀器能夠在鍍膜過程中或完成后，非破壞性地對膜層進行在位或離線檢測，通過分析反射或透射光波的相位信息，反演出薄膜的精確厚度分布和折射率均勻性，從而實現工藝參數的精細調控與產品質量的嚴格把關，確保每一片濾光片、反射鏡都能達到預期的設計指標。蘇州穆勒矩陣相位差測試儀價格

千宇光學專注于偏振光學應用、光學解析、光電探測器和光學檢測儀器的研發與制造。主要事業涵蓋光電材料、光學顯示、半導體、薄膜橡塑、印刷涂料等行業。 產品覆蓋LCD、OLED、VR、AR等上中下游各段光學測試需求，并于國內率先研發相位差測試儀打破國外設備壟斷，目前已廣泛應用于全國光學頭部品牌及其制造商

千宇光學研發中心由光學博士團隊組成，掌握自主的光學檢測技術, 測試結果可溯源至國家計量標準。與國家計量院、華中科技大學、東南大學、同濟大學等高校建立產學研深度合作。千宇以提供高價值產品及服務為發展原動力， 通過持續輸出高速度、高精度、高穩定的光學檢測技術，優化產品品質，成為精密光學產業有價值的合作伙伴。