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光掩膜概述： 光掩膜一般也稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到產品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。 作為半導體、液晶顯示器制造過程中轉移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導體制程中非常關鍵的一環。 光掩膜的應用領域： 光掩膜主要應用于集成電路、平板顯示（包括 LCD、LED、OLED）、印刷電路板等領域，應用較為***。 安徽專業掩膜版性價比高光掩膜除了應用于芯片制造外，還***的應用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩...

光刻掩膜版的工藝過程： 1） 繪制生成設備可以識別的掩膜版版圖文件（GDS格式） 2） 使用無掩模光刻機讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區域，使該區域的光刻膠（通常為正膠）發生光化學反應 3） 經過顯影、定影后，曝光區域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層 4） 使用鉻刻蝕液進行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區域，而受光刻膠保護的鉻層不會被刻蝕，形成不透光區域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結構。 5） 在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對掩膜版進行清洗。 其中掩膜版圖形數據由用戶自行設計并...

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光掩膜除了應用于芯片制造外，還***的應用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料。基板通常是高純度，低反射率，低熱膨脹系數的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。應用于芯片制造的光掩膜為高敏感度的鉻版。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應用于芯片制造。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。口碑好掩膜版質量放心可靠掩膜版的原材料掩膜...

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掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。 掩膜版對下***業生產線的作用主要體現為利用掩膜版上已設計好的圖案，通過透光與非透光的方式進行圖像（電路圖形）復制，從而實現批量生產。 公司生產的掩膜版產品根據基板材質的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。 產品主要應用于平板顯示、半導體芯片、觸控、電路板等行業，是下***業產品制程中的關鍵工具。四川**掩膜版歡迎來電 光掩膜上游主要包括圖形設計、光掩膜設備及材料行業，下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業，...

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