遠程等離子源，是一種基于變壓器電感耦合等離子體技術的duli式自由基發生器（RPS），可以有效的解離輸入氣體。產生清洗或蝕刻所需的自由基(氟、氧原子等)，這些自由基通過腔室壓差傳輸，遠程等離子體內的電場保持在較低的水平，避免電荷可能損壞敏感的晶圓結構，利用自由基的強氧化特性，達到腔室清洗(Chamber Clean)或制程（On-Wafer PROCESS）的目的。該產品設計具有先進的HA或PEO涂層plasma block，先進的功率自適應模式，滿足多種鍍膜和刻蝕工藝需求，小體積的同時最大功率可達10kw。遠程等離子體（RPS）對真空腔體進行微處理，達到去除腔體內部水殘留氣體，減少殘余氣體量目的。安徽國內RPS廠家

傳統等離子清洗技術（如直接等離子體）常因高能粒子轟擊導致工件損傷，尤其不適用于精密器件。相比之下，RPS遠程等離子源通過分離生成區與反應區，只 輸送長壽命的自由基到處理區域，從而實現了真正的“軟”清洗。這種技術不僅減少了離子轟擊風險，還提高了工藝的可控性。例如，在MEMS器件制造中，RPS遠程等離子源能夠精確去除有機污染物而不影響微結構。此外，其靈活的氣體選擇支持多種應用，從氧化物刻蝕到表面活化。因此，RPS遠程等離子源正逐步取代傳統方法，成為高級 制造的優先。廣東遠程等離子源RPS電源半導體在航空航天電子輻射加固工藝中提升器件可靠性。

晟鼎RPS遠程等離子體源產品特性：01.duli的原子發生器；02.電感耦合等離子體技術；03集成的電子控制及電源系統，實現了功率自適應調節；04內循環強制風冷散熱+水冷散熱，極大程度避免環境污染內部元器件；05.輸入電檢測，避免設備工作于異常交流輸入電壓；06.配置了模擬總線控制接口；07.先進的表面處理工藝保證了腔體長時間穩定的運行；08.簡化的工作模式方便了用戶的使用；06.氣體解離率高，效果可媲美進口設備。主動網絡匹配技術:可對不同氣體進行阻抗匹配，使得等離子腔室獲得大能量。

RPS遠程等離子源在研發實驗室中的多功能性：研發實驗室需要靈活的工藝工具來測試新材料和結構。RPS遠程等離子源支持廣泛的應用，從基板清潔到表面改性，其可調參數（如功率、氣體流量和壓力）允許用戶優化實驗條件。在納米技術研究中，RPS遠程等離子源可用于制備超潔凈表面，確保實驗結果的準確性。其低損傷特性也使其適用于生物傳感器或柔性電子的開發。通過提供可重復的工藝環境，RPS遠程等離子源加速了創新從實驗室到量產的過程。在未來新材料開發中實現原子級操控。

RPS遠程等離子源應用領域在生物醫療器件，特別是微流控芯片、體外診斷（IVD）設備和植入式器械的制造中，扮演著表面功能化改性的重要角色。許多高分子聚合物（如PDMS、PC、COC）因其優異的生物相容性和易加工性被廣 使用，但其表面通常呈疏水性，不利于細胞粘附或液體流動。RPS遠程等離子源通過氧氣或空氣產生的氧自由基，能夠高效地在這些聚合物表面引入大量的極性含氧基團（如羥基、羧基），從而將其從疏水性長久性地改變為親水性。這種處理均勻、徹底，且不會像直接等離子體那樣因過熱和離子轟擊對精細的微流道結構造成損傷。經過RPS處理的微流控芯片，其親水通道可以實現無需泵驅動的毛細管液流，極大地簡化了設備結構，提升了檢測的可靠性和靈敏度。在文化遺產保護中實現文物無損清潔。廣東遠程等離子源RPS電源半導體

適用于生物芯片微流道表面的親水化改性處理。安徽國內RPS廠家

RPS遠程等離子源的維護與壽命延長效益：設備停機時間是制造業的主要成本來源之一。RPS遠程等離子源通過定期清潔沉積腔室，減少顆粒污染引起的工藝漂移，從而延長維護周期。其高效的清洗能力縮短了清潔時間，提高了設備利用率。此外，RPS遠程等離子源的模塊化設計便于集成到現有系統中，無需大規模改造。用戶報告顯示，采用RPS遠程等離子源后，平均維護間隔延長了30%以上，整體擁有成本明顯 降低。這對于高產量生產線來說，意味著更高的投資回報率。安徽國內RPS廠家