相位差測量儀在OLED行業發揮著至關重要的質量管控作用，其主要應用于對OLED發光層、基板以及封裝薄膜的微觀厚度與均勻性進行高精度非接觸式測量。該設備在OLED行業供應鏈的上下游協作中也起到了標準統一的橋梁作用。無論是材料供應商驗證新材料膜的涂布均勻性，還是模組廠分析貼合膠層的厚度與氣泡缺陷，相位差測量儀提供的客觀、精確數據都是雙方進行質量認定與技術交流的共同語言。其生成的詳盡檢測報告可實現質量數據的全程可追溯，為持續改進工藝、提升產品整體競爭力奠定了堅實基礎，是推動OLED產業向更***發展的重要技術裝備。通過實時監測相位差，優化AR/VR光學膠合的工藝參數。穆勒矩陣相位差測試儀研發

相位差測量儀在光學領域的應用十分普遍，尤其在偏振度測量中發揮著關鍵作用。偏振光在通過光學元件時，其偏振態可能發生變化，相位差測量儀能夠精確檢測這種變化，從而評估光學元件的性能。例如，在液晶顯示器的生產中，相位差測量儀可用于分析液晶分子的排列狀態，確保顯示器的對比度和色彩準確性。此外，在光纖通信系統中，相位差測量儀能夠監測光信號的偏振模色散，提高信號傳輸的穩定性。蘇州千宇光學自主研發的相位差測量儀，搭載多波段光譜儀,檢測項目涵蓋偏光片各光學性能，實現高精密高精度穩定測量
光程差相位差測試儀生產廠家在偏光片生產中，相位差測試儀能精確檢測膜層的雙折射特性。

偏光片相位差測試儀專注于評估偏光片在特定波長下的相位延遲特性。不同于常規的偏振度測試，相位差測量能更精確地反映偏光片的微觀結構特性。這種測試對高精度液晶顯示器件尤為重要，因為偏光片的相位特性直接影響顯示器的暗態表現。當前的測試系統采用可調諧激光光源，可以掃描測量偏光片在整個可見光波段的相位響應。在車載顯示等嚴苛應用環境中，相位差測試還能評估偏光片在高溫高濕條件下的性能穩定性。此外，該方法也為開發新型復合偏光片提供了重要的性能評估手段

斯托克斯測試方法通過測量光的四個斯托克斯參數，可以完整描述光束的偏振狀態。相位差信息隱含在斯托克斯參數的相互關系之中，反映了光學系統的偏振調制特性。這種測試對偏振相關器件的性能評估尤為重要，如液晶相位調制器、光纖偏振控制器等。當前的實時斯托克斯測量系統采用高速光電探測陣列，可以捕捉快速變化的偏振態。在光通信系統中，斯托克斯測試能夠分析光纖鏈路的偏振特性，為系統優化提供依據。此外，該方法還可用于研究新型光學材料的偏振特性，為光子器件開發提供實驗基礎相位差測試為AR/VR設備的沉浸式體驗提供關鍵光學數據支撐。

位差測量儀作為光學精密測量領域的設備，在光學元件的研發、制造與質量檢測中發揮著不可替代的作用。它通過高精度的干涉或波前傳感技術，能夠非接觸地測量光波經過光學材料或系統后產生的相位分布變化，從而精確評估元件面形精度、材料均勻性、內部應力及鍍膜質量。無論是透鏡、棱鏡、反射鏡還是復雜的光學組裝體，其波前畸變和像差均可被快速捕捉并量化，為工藝改進和質量控制提供客觀、可靠的數據依據，提升光學產品的性能一致性與良品率。相位差貼合角測試儀可精確測量偏光片與顯示面板的貼合角度偏差，確保顯示均勻性。穆勒矩陣相位差測試儀研發

通過相位差測試儀可分析偏光片的相位延遲，優化生產工藝。穆勒矩陣相位差測試儀研發

在OLED顯示屏的研發階段，相位差測量儀是加速新材料和新結構開發的關鍵工具。研發人員需要不斷嘗試新型發光材料、空穴傳輸層和電子注入層的組合，其厚度匹配直接決定了器件的發光效率、色純度和驅動電壓。該儀器能夠快速、準確地測量試驗樣品的膜厚結果，并清晰展現膜層覆蓋的均勻性狀況，幫助工程師深入理解工藝參數（如蒸鍍速率、掩膜版設計）與膜厚分布的內在關聯，從而***縮短研發周期，為打造更高性能的下一代顯示產品提供堅實支撐。穆勒矩陣相位差測試儀研發

千宇光學專注于偏振光學應用、光學解析、光電探測器和光學檢測儀器的研發與制造。主要事業涵蓋光電材料、光學顯示、半導體、薄膜橡塑、印刷涂料等行業。 產品覆蓋LCD、OLED、VR、AR等上中下游各段光學測試需求，并于國內率先研發相位差測試儀打破國外設備壟斷，目前已廣泛應用于全國光學頭部品牌及其制造商

千宇光學研發中心由光學博士團隊組成，掌握自主的光學檢測技術, 測試結果可溯源至國家計量標準。與國家計量院、華中科技大學、東南大學、同濟大學等高校建立產學研深度合作。千宇以提供高價值產品及服務為發展原動力， 通過持續輸出高速度、高精度、高穩定的光學檢測技術，優化產品品質，成為精密光學產業有價值的合作伙伴。