在OLED顯示屏的研發(fā)階段，相位差測(cè)量?jī)x是加速新材料和新結(jié)構(gòu)開(kāi)發(fā)的關(guān)鍵工具。研發(fā)人員需要不斷嘗試新型發(fā)光材料、空穴傳輸層和電子注入層的組合，其厚度匹配直接決定了器件的發(fā)光效率、色純度和驅(qū)動(dòng)電壓。該儀器能夠快速、準(zhǔn)確地測(cè)量試驗(yàn)樣品的膜厚結(jié)果，并清晰展現(xiàn)膜層覆蓋的均勻性狀況，幫助工程師深入理解工藝參數(shù)（如蒸鍍速率、掩膜版設(shè)計(jì)）與膜厚分布的內(nèi)在關(guān)聯(lián)，從而***縮短研發(fā)周期，為打造更高性能的下一代顯示產(chǎn)品提供堅(jiān)實(shí)支撐。相位差測(cè)試儀可用于偏光片老化測(cè)試，評(píng)估長(zhǎng)期穩(wěn)定性。光學(xué)材料方位角相位差測(cè)試儀國(guó)產(chǎn)替代

在光學(xué)干涉測(cè)量中，相位差測(cè)量?jī)x是重要設(shè)備之一。干涉儀通過(guò)分析兩束光的相位差來(lái)測(cè)量光學(xué)元件的表面形貌或折射率分布。相位差測(cè)量?jī)x能夠以納米級(jí)分辨率檢測(cè)相位變化，蘇州千宇光學(xué)自主研發(fā)的相位差測(cè)量?jī)x相位差測(cè)量重復(fù)性≤0.08nm，適用于高精度光學(xué)元件的檢測(cè)。例如，在望遠(yuǎn)鏡鏡面的加工中，相位差測(cè)量?jī)x可幫助檢測(cè)鏡面的面形誤差，確保成像清晰度。此外，在光學(xué)玻璃的均勻性測(cè)試中，相位差測(cè)量?jī)x也能通過(guò)干涉條紋分析，評(píng)估材料的折射率分布，為光學(xué)設(shè)計(jì)提供可靠數(shù)據(jù)。
斯托克斯相位差測(cè)試儀研發(fā)該相位差測(cè)試儀具備自動(dòng)校準(zhǔn)功能，確保長(zhǎng)期測(cè)量準(zhǔn)確性。

相位差測(cè)量?jī)x在光學(xué)相位延遲測(cè)量中具有關(guān)鍵作用，特別是在波片和液晶材料的表征方面。通過(guò)精確測(cè)量o光和e光之間的相位差，可以評(píng)估λ/4波片、λ/2波片等光學(xué)元件的性能指標(biāo)。現(xiàn)代相位差測(cè)量?jī)x采用干涉法或偏振分析法，測(cè)量精度可達(dá)0.01λ，為光學(xué)系統(tǒng)的偏振控制提供可靠數(shù)據(jù)。在液晶顯示技術(shù)中，這種測(cè)量能準(zhǔn)確反映液晶盒的相位延遲特性，直接影響顯示器的視角和色彩表現(xiàn)。科研人員還利用該技術(shù)研究新型光學(xué)材料的雙折射特性，為光子器件開(kāi)發(fā)奠定基礎(chǔ)。蘇州千宇光學(xué)自主研發(fā)的相位差測(cè)量?jī)x可以測(cè)試0-20000nm的相位差范圍，實(shí)現(xiàn)較低相位差測(cè)試，可解析Re為1納米以?xún)?nèi)基膜的殘留相位差，高相位差測(cè)試，可對(duì)離型膜、保護(hù)膜等高相位差樣品進(jìn)行檢測(cè)，搭載多波段光譜儀,檢測(cè)項(xiàng)目涵蓋偏光片各學(xué)性能，高精密高速測(cè)量。并且還可以支持定制可追加椎光鏡頭測(cè)試曲面樣品。

橢圓度測(cè)試是評(píng)估AR/VR光學(xué)系統(tǒng)偏振特性的重要手段。相位差測(cè)量?jī)x采用旋轉(zhuǎn)分析器橢偏術(shù)，可以精確測(cè)定光學(xué)元件引起的偏振態(tài)橢圓率變化。這種測(cè)試對(duì)評(píng)估光波導(dǎo)器件的偏振保持性能尤為重要，測(cè)量動(dòng)態(tài)范圍達(dá)0.001-0.999。系統(tǒng)采用同步檢測(cè)技術(shù)，抗干擾能力強(qiáng)，適合產(chǎn)線(xiàn)環(huán)境使用。在多層抗反射膜的檢測(cè)中，橢圓度測(cè)試能發(fā)現(xiàn)各向異性導(dǎo)致的偏振失真。當(dāng)前的多視場(chǎng)測(cè)量方案可一次性獲取中心與邊緣區(qū)域的橢圓度分布。此外，該數(shù)據(jù)還可用于建立光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差模型，指導(dǎo)成像質(zhì)量?jī)?yōu)化。在LCD/OLED生產(chǎn)中，該設(shè)備能檢測(cè)偏光膜貼合時(shí)的相位差，避免出現(xiàn)彩虹紋和亮度不均。

光學(xué)膜貼合角測(cè)試儀通過(guò)相位差測(cè)量評(píng)估光學(xué)元件貼合界面的質(zhì)量。當(dāng)兩個(gè)光學(xué)表面通過(guò)膠合或直接接觸方式結(jié)合時(shí)，其界面會(huì)形成納米級(jí)的空氣間隙或應(yīng)力層，導(dǎo)致可測(cè)量的相位差。這種測(cè)試對(duì)高精度光學(xué)系統(tǒng)的裝配尤為重要，如相機(jī)鏡頭模組、激光諧振腔等。當(dāng)前的干涉測(cè)量技術(shù)結(jié)合相位分析算法，可以實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)的貼合質(zhì)量評(píng)估。在AR設(shè)備的光學(xué)模組生產(chǎn)中，貼合角測(cè)試確保了多個(gè)光學(xué)元件組合后的整體性能。此外，該方法還可用于研究不同貼合工藝對(duì)光學(xué)性能的影響，為工藝優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支持可以測(cè)量0-20000nm的相位差范圍。濟(jì)南斯托克斯相位差測(cè)試儀報(bào)價(jià)

通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)相位差，優(yōu)化偏光片鍍膜工藝參數(shù)。光學(xué)材料方位角相位差測(cè)試儀國(guó)產(chǎn)替代

偏光片軸角度測(cè)試儀通過(guò)相位差測(cè)量確定偏光片的透射軸方向，是顯示器生產(chǎn)線(xiàn)的關(guān)鍵檢測(cè)設(shè)備。采用旋轉(zhuǎn)分析器法的測(cè)試系統(tǒng)測(cè)量精度可達(dá)0.02度，完全滿(mǎn)足高要求顯示產(chǎn)品的工藝要求。這種測(cè)試不僅能確保偏光片貼附角度的準(zhǔn)確性，還能發(fā)現(xiàn)材料本身的軸偏缺陷。在柔性O(shè)LED生產(chǎn)中，軸角度測(cè)試需要特別考慮彎曲狀態(tài)下的測(cè)量基準(zhǔn)問(wèn)題。當(dāng)前的機(jī)器視覺(jué)技術(shù)結(jié)合深度學(xué)習(xí)算法，實(shí)現(xiàn)了偏光片貼附過(guò)程的實(shí)時(shí)角度監(jiān)控，很大程度提高了生產(chǎn)良率。此外，該方法還可用于評(píng)估偏光片在長(zhǎng)期使用后的性能變化，為可靠性研究提供數(shù)據(jù)支持光學(xué)材料方位角相位差測(cè)試儀國(guó)產(chǎn)替代

千宇光學(xué)專(zhuān)注于偏振光學(xué)應(yīng)用、光學(xué)解析、光電探測(cè)器和光學(xué)檢測(cè)儀器的研發(fā)與制造。主要事業(yè)涵蓋光電材料、光學(xué)顯示、半導(dǎo)體、薄膜橡塑、印刷涂料等行業(yè)。 產(chǎn)品覆蓋LCD、OLED、VR、AR等上中下游各段光學(xué)測(cè)試需求，并于國(guó)內(nèi)率先研發(fā)相位差測(cè)試儀打破國(guó)外設(shè)備壟斷，目前已廣泛應(yīng)用于全國(guó)光學(xué)頭部品牌及其制造商

千宇光學(xué)研發(fā)中心由光學(xué)博士團(tuán)隊(duì)組成，掌握自主的光學(xué)檢測(cè)技術(shù), 測(cè)試結(jié)果可溯源至國(guó)家計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)。與國(guó)家計(jì)量院、華中科技大學(xué)、東南大學(xué)、同濟(jì)大學(xué)等高校建立產(chǎn)學(xué)研深度合作。千宇以提供高價(jià)值產(chǎn)品及服務(wù)為發(fā)展原動(dòng)力， 通過(guò)持續(xù)輸出高速度、高精度、高穩(wěn)定的光學(xué)檢測(cè)技術(shù)，優(yōu)化產(chǎn)品品質(zhì)，成為精密光學(xué)產(chǎn)業(yè)有價(jià)值的合作伙伴。