安全性設計滲透于系統的每一個細節。除了雙套管,管道閥門均采用隔膜閥或超高密封性閥件,接頭為焊接或特殊金屬面密封。所有可能接觸氣體的部件,均需選用與氣體兼容的高等級不銹鋼或特殊合金,并經過電拋光、鈍化等處理,以比較大限度減少出氣、吸附和顆粒產生,同時抵抗腐蝕。安...
氣體純化技術是大宗特氣系統保障氣體品質的主要技術之一。隨著半導體工藝精度的不斷提升,對氣體中雜質的控制要求越來越嚴格,純化系統需能夠有效去除氣體中的水分、氧氣、金屬雜質等各類有害雜質。目前常用的純化技術包括吸附純化、膜分離純化、低溫精餾純化等,不同的純化技術適...
工業集中供氣系統是一種現代化集中供氣,這種現代化的供氣方法得到了社會普遍認可,它是一種將氣源通過管路設計集中匯流到用氣點的現代化供氣設計;這種集中供氣方式很大地提高了效益,降低了人力資源的消耗并且安全美觀,氣體輸出更加的穩定流暢;適用于氧氣、氬氣、二氧化碳、氫...
系統特色為使GDS系統具有高可靠性,在系統設計上,應遵循技術先進、運行可靠、功能豐富、使用方便、易于維護、合理投資的原則,對系統進行整體設計和實施。先進性:采用先進的設計思想和設備,充分利用現有高新技術,系統達到國內先進水平。成熟性:采用成熟的技術、品牌及型號...
管道設計需要考慮輸送的距離,距離越長,成本越高,風險也越高,通常較合理的設計流速為20ml/S,可燃性氣體小于10ml/S,毒性/腐蝕性氣體小于8ml/S,在用量設計方面,則需要考慮使用點的壓力和管徑大小,前者與氣體特性有關,后者使用點的管徑一般為1/4”~3...
高純氣體管道輸送管道,要根據工藝過程對氣體純度、允許的雜質含量、微粒含量等的要求不同,采用相應質量的管材。比如半導體產業因其生產工藝復雜、加工精細,它不僅要求有潔凈的生產環境,而且對生產過程中所需的各種高純氣體有特定的、嚴格的要求,從微米技術進入亞微米、深亞微...
大宗特氣供應系統主要適用于:Semiconductor、TFT、SunSolar等工廠特氣的集中供氣。 大宗特氣系統作為半導體生產過程中必不可少的系統,高純氣體系統直接影響全廠生產的運行和產品的質量。相比較而言,集成電路芯片制造廠由于工藝技術難度更高...
根據用氣設備的分布情況,高純氣體的管網不宜過大或者過長;宜采用不封閉的環形管路,在系統末端連續不斷排放少量的氣體,以便在管網中總有高純氣體流通,不會發生“死空間”引起高純氣體的污染。管路中應減少不流動氣體的“死空間”,不應設有盲管,在特種氣體的儲氣瓶與用氣設備...
高純氣體管道的設計要點:1.對于不同特性的氣體,要規劃單獨的供應區域,一般分為三個區:腐蝕性/毒性氣體區、可燃性氣體區、惰性氣體區,將相同性質的氣體集中加強管理,可燃性氣體區要特別規劃防爆墻與泄漏口,若空間不足,可考慮將惰性氣體放置與毒性/腐蝕性氣體區。2.管...
“輸送”模塊主要指廠務級別的管道網絡,普遍采用雙套管(或稱套管)設計。內管輸送特氣,外管則形成包圍的保護層,充入惰性氣體或保持負壓。一旦內管發生微泄漏,泄漏物會被約束在外套管中,并通過偵測器立即報警,防止其擴散至公共區域。這種設計是防止有毒易燃氣體大面積外泄的...
系統特色為使GDS系統具有高可靠性,在系統設計上,應遵循技術先進、運行可靠、功能豐富、使用方便、易于維護、合理投資的原則,對系統進行整體設計和實施。先進性:采用先進的設計思想和設備,充分利用現有高新技術,系統達到國內先進水平。成熟性:采用成熟的技術、品牌及型號...
對高純氣體純度要求不同的用氣設備,宜采用分等級高純氣體輸送系統;也可采用同等級輸送系統,但是在純度要求高的用氣設備鄰近處設末端氣體提純裝置。為了檢測高純氣體的純度和雜質含量,輸送系統除了設置必要的連續檢測儀器,如衡量水含量或者氧雜質含量等分析儀外,還應設置定期...
不同類型的半導體芯片生產,對大宗特氣系統的配置需求存在明顯差異。例如,邏輯芯片制造過程中,蝕刻工藝需大量使用含氟特氣,系統需重點強化氟化物氣體的安全防護與腐蝕控制;存儲芯片生產則對沉積工藝用氣體的純度要求更高,需配備更精密的純化系統。因此,大宗特氣系統在設計之...
上海杰瑞斯特機電工程技術有限公司是一家專業從事高純度供應系統工程的企業,致力于為先進制造業的高科技企業提供高純工藝系統的一體化解決方案,為客戶提供大宗氣體系統、電子特氣系統、實驗室氣路系統、工業集中供氣系統、潔凈氣體管道、Local Scrubber尾氣處理系...
儲存設備作為特氣管道系統的氣源主,是保障氣體穩定供應的基礎環節,其主要設備為特氣柜(GC)。特氣柜的設計需具備多重安全防護功能,包括氣體泄漏檢測、自動緊急切斷、壓力監控與調節等,能夠對儲存過程中的風險進行實時預警與處置。針對不同特性的特種氣體,特氣柜還需進行個...
電子特種氣體是光電子、微電子等領域,特別是超大規模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池、半導體發光器件和半導體材料制造過程不可缺少的基礎性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質量、集成度、特定技術指標和成品率,并從根本上制約著電...
集中供氣的優點1、配有專門的控制設備,以排除每次更換氣瓶時引入的雜質,確保管路氣體終端的純度。2、不間斷氣體供應;氣體控制系統可以手動或自動進行切換,以保證氣體連續供給。3、氣體壓力穩定;系統采用集中降壓,亦可采用兩級減壓方式供氣,供氣更加穩定流暢。4、高效益...
生物制藥管道系統提供全方面的生物制藥管道工程、純水管道、純蒸汽管道、潔凈壓縮空氣管道、無菌工藝管道、工藝模塊、工藝設備等的現場安裝、調試服務。 廢氣處理特性半導體工藝中常使用的化學物質及其副產物,一般依照其化學特性與其不同的影響范圍,可分為:1.易燃...
高純氣體管道是高純氣體供氣系統的重要組成部分,是將符合要求的高純氣體送至用氣點仍保持質量合格的關鍵,包括系統的設計、管件及附件的選擇、施工安裝和試驗測試等內容。近年來以大規模集成電路為主的微電子產品生產對高純氣體的純度和雜質含量的日益嚴格的要求,使高純氣體的配...
特氣管道系統的設計與規模,直接反映了制造工廠的技術等級與產能。一條先進的12英寸晶圓產線,其特氣系統可能涉及數十種氣體、長達數公里的雙套管網絡、上百個VMB/VMP,投資巨大。它的穩定運行,是保障納米級芯片制造工藝重復性、一致性的基礎,是工廠連續不停產的前提。...
面對種類繁多的特氣,系統的材質選擇與設計需“量氣而定”。對于腐蝕性極強的氣體如Cl2、HCl,需選用耐蝕的哈氏合金;對于易自燃的SiH4,系統需徹底排除空氣,并配備自燃抑制劑或緊急排放燃燒裝置;對于毒性氣體如砷烷、磷烷,其雙套管負壓要求更高,排氣必須接入專門用...
管路中應減少不流動氣體的“死空間”,不應設有盲管,在特種氣體的儲氣瓶與用氣設備之間應設吹掃控制裝置、多閥門控制裝置、用以控制各個閥門的開關順序、系統吹除,以確保供氣系統的安全、可靠運行和防止“死區”形成而滯留污染物,降低氣體純度。對高純氣體純度要求不同的用氣設...
特氣管道系統是保障高危險性特種氣體安全應用的主要載體,其涵蓋SiH?、NF?、Cl?等易燃易爆、有毒、腐蝕性氣體,以及純度超99.999%的超高純氣體的儲存、輸送與分配全流程,由各類專業設備、管道及部件共同構成。由于涉及氣體的高危特性,安全性是該系統設計與運行...
集中供氣系統與氣瓶供氣相比的優勢1、杜絕氣瓶留余壓的浪費,降低用氣成本。2、使用方便、操作簡單,減少頻繁換氣瓶的繁瑣勞動。3、液體密閉存儲,儲量大,質量穩定。4、排除了氣瓶在使用和保管過程中的易發生的碰撞、氣帶磨損、安全間距等危險性。 工業集中供氣系...
特氣管道系統的主要價值在于實現高危特種氣體的全流程安全管控,其設計需充分適配不同氣體的物理化學特性。對于SiH?這類易燃易爆氣體,系統需強化防爆泄壓設計;針對Cl?等腐蝕性氣體,需選用耐腐性極強的管道與設備材質;而超高純氣體的輸送則對管道潔凈度、密封性提出要求...
大宗特氣供應系統主要適用于:Semiconductor、TFT、SunSolar等工廠特氣的集中供氣。 大宗特氣系統作為半導體生產過程中必不可少的系統,高純氣體系統直接影響全廠生產的運行和產品的質量。相比較而言,集成電路芯片制造廠由于工藝技術難度更高...
大宗特氣系統是半導體制造工廠的主要支撐體系之一,直接關系到全廠生產的連續性與產品良率。該系統專為集成電路芯片制造等高精度工藝設計,能夠在氣柜存儲基礎上實現大規模、高純度的氣體穩定輸送。相比傳統供氣方式,大宗特氣系統具備更嚴苛的品質控制能力,可適應半導體生產中對...
電子特種氣體是光電子、微電子等領域,特別是超大規模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池、半導體發光器件和半導體材料制造過程不可缺少的基礎性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質量、集成度、特定技術指標和成品率,并從根本上制約著電...
大宗特氣系統的氣體存儲環節是保障持續供應的基礎。系統通常采用高壓氣瓶組、低溫儲罐等多種存儲方式,根據氣體的物理性質與用量需求進行選擇。對于用量較大的大宗氣體,如氮氣、氧氣等,多采用低溫儲罐存儲,能夠有效降低存儲成本,同時滿足大流量供應需求;對于特種氣體,則多采...
特氣管道系統的設計與規模,直接反映了制造工廠的技術等級與產能。一條先進的12英寸晶圓產線,其特氣系統可能涉及數十種氣體、長達數公里的雙套管網絡、上百個VMB/VMP,投資巨大。它的穩定運行,是保障納米級芯片制造工藝重復性、一致性的基礎,是工廠連續不停產的前提。...